Dokument 1.pdf - RWTH Aachen University
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3.2 Transportmessungen an Y/Si(110)-Nanodrähten<br />
Tunnelspitzen bekommt man somit vier eigene Spannungswerte.<br />
Spitze 3<br />
4,999 V<br />
Si<br />
80<br />
60<br />
Spitze 2<br />
Spitze 4<br />
40<br />
Spitze 2<br />
4,736 V<br />
I=0,2 mA<br />
Spitze 4<br />
Spitzenstrom (A)<br />
20<br />
0<br />
-20<br />
YSi<br />
4,570 V<br />
-40<br />
-60<br />
U=166 mV<br />
Spitze 1<br />
1,018 V<br />
-80<br />
4,5 4,570 4,6 4,7 4,736 4,8<br />
Spitzenspannung (V)<br />
Abbildung 3.32: Spannungswerte der vier Tunnelspitzen (links) und Spannungsabhängigkeit<br />
der Ströme der zwei inneren Tunnelspitzen 2 und 4<br />
(rechts) aufgetragen. Aus den Nulldurchgängen der Stromkurven<br />
bestimmt man die lokalen Potentiale an den Kontaktierungsstellen<br />
der inneren Tunnelspitzen.<br />
Beim Ziehen der Spannungsrampen an den inneren Tunnelspitzen entstehen kapazitive<br />
Ströme, welche einen Zusatzbeitrag zu dem reinen Stromwert in den aufgenommenen<br />
Messdaten ergeben. Um die aufgenommenen Messdaten von diesen<br />
Zusatzbeitrag zu bereinigen, verwendet man eine Methode der Kompensation, die<br />
in dem Abschnitt 3.1.2 schon erwähnt wurde. Die verschiedenen Stromkurven der<br />
gleichen Tunnelspitzen, welche in der Abbildung 3.32 geplottet sind, haben die Nulldurchgänge<br />
die leicht unterschiedlich sind. Dies geschieht, da die Stromkurven auf<br />
leicht unterschiedlicher Höhe liegen wegen des kleines Stromoffsets, welcher auf die<br />
kapazitiven Ströme zurückzuführen ist. Durch die kapazitiven Ströme unterscheiden<br />
sich die Nulldurchgangspunkte nur leicht. Der Unterschied zwischen den Nulldurchgangspunkten<br />
der Stromkurven, die paarweise mit positiven und negativen Spannungsrampen<br />
aufgenommen wurden, liegt zwischen den 6 und 12 mV. Durch die<br />
Mittelung der Nulldurchgangspunkte wurde der kapazitive Beitrag kompensiert.<br />
Diese durch die Mittelung ausgerechneten Spannungswerte von 4,736 und 4,570<br />
Volt der lokalen Potentiale des Nanodrahts an den Kontaktstellen der Tunnelspitzen<br />
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