Dokument 1.pdf - RWTH Aachen University
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3 Anwendungen<br />
3.1 Fähigkeiten der Kombinationsapparatur<br />
3.1.1 Auflösung und thermische Drift des 4-Spitzen-RTM<br />
Die Güte eines RTM kann nach diversen Kriterien beurteilt werden. Zum einem<br />
gehört dazu die erreichbare Auflösung, zum anderem gehört dazu die thermische<br />
Drift in der x-, y- und z-Richtung.<br />
Das hier aufgebaute 4-Spitzen-RTM erreicht dabei mit jeder seiner RTM-Einheiten<br />
atomare Auflösung. Die zweite Stufe des Schwingungsentkopplungssystems ist in einem<br />
RTM-Modus zu belassen, um die beste Entkopplung von den Gebäudeschwingungen<br />
zu erzielen. Als Beispiel einer erreichbaren atomaren Auflösung dient eine<br />
Abbildung der HOPG-Oberfläche (Highly Oriented Pyrolytic Graphite), welche in<br />
der Luft zu Testzwecke mit einer RTM-Einheit 3 aufgenommen wurde (in der Abbildung<br />
3.1). Die Reinigung der HOPG-Probe fand durch Abziehen der oberen Schicht<br />
mit einem Klebstreifen statt. Zusätzlich zu der Topographie der HOPG in der Luft<br />
wurde eine Si(111)-Oberfläche im Vakuum von jeder RTM-Einheit aufgenommen.<br />
Diese Topographiebilder der Si(111)-Oberfläche in der Abbildung 3.2 zeigen eine<br />
7×7-Rekonstruktion der präparierter Probe. Die Präparation der Si(111)-Probe fand<br />
in einer Präparationskammer statt. Die Probenoberfläche wurde durch Heizen bei<br />
1230 ◦ C gereinigt. Die Probentemperatur wurde durch einen Pyrometer kontrolliert.<br />
Beim Heizen mittels Direktstrom verdampft die obere Probenschicht und eine saubere<br />
Probenoberfläche kommt zum Vorschein. Beim Abkühlen der Probe auf der<br />
Probenoberfläche bleibt eine 7×7-Rekonstruktion [Voigtländer (2001)].<br />
Zur Bestimmung der thermischen Drift des Mikroskops wurde eine Si(110)-Probe<br />
durch Direktstromheizen gereinigt und nach dem kurzen Abkühlen in den RTM-<br />
Kopf eingesetzt. Nach der groben und feinen Annäherung der Tunnelspitze an die<br />
Probenoberfläche wurde sodann 1,5 Stunden gewartet; damit wurde das Piezokriechen<br />
minimiert. Anschließend wurde mit dem Rastern der Oberfläche begonnen.<br />
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