Forschungs - Laser- und Medizin-Technologie GmbH
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Selective removal of thin films<br />
Direct-write laser ablation patterning of<br />
thin functional film such as ITO on glass<br />
and other substrates is needed for repair<br />
applications and also, in lieu of conventional<br />
photolithography, for device manufacturing<br />
and in thin-film photovoltaic applications.<br />
Thermally induced defects are<br />
minimized in the residual material by using<br />
picosecond (or sub-ps) laser technology.<br />
The recent development of high repetition<br />
rate amplified ultrafast lasers presents<br />
interesting possibilities for thin film patterning.<br />
A research project on selective<br />
removal of thermally sensitive layers, such<br />
as CIS/CIGS was started in February 2009.<br />
In addition, industrial feasibility studies in<br />
thin film patterning are being conducted<br />
at the LMTB laser application laboratory.<br />
Die Texturierung dünner Funktionsschichten<br />
besitzt in vielen Bereichen der Industrie<br />
eine herausragende Bedeutung. Einige Anwendungsbeispiele<br />
sind:<br />
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David Ashkenasi, Andreas Lemke, Manuela Schwagmeier<br />
Herstellung von Abisolierungskanälen<br />
Geometrisch vordefinierter Abtrag<br />
transparenter Halbeiterschichten<br />
Gezielte Bearbeitung von Leiterbahnen<br />
Abtrag dünner „low-K“-Schichten auf<br />
thermisch <strong>und</strong>/oder mechanisch sensiblen<br />
Trägermaterialien<br />
Hochpräziser Abtrag dielektrischer Schichtsysteme<br />
auf optischen Komponenten<br />
Selektiver Abtrag dünner<br />
Schichten für die Photovoltaik<br />
Für eine nachhaltige wirtschaftliche Umsetzung<br />
der technischen Vorteile von <strong>Laser</strong>bearbeitungsverfahren<br />
an thermisch<br />
<strong>und</strong> mechanisch „sensiblen“ Schichten<br />
bzw. Schichtsystemen ist insbesondere<br />
eine Minimierung der Wärme-Einflusszone<br />
von großer Bedeutung.<br />
Bei dem in der Dünnschicht-Photovoltaik<br />
noch häufig genutzten mechanischen Verfahren<br />
der Nadelritzung treten Kräfte auf,<br />
die - ähnlich wie beim Ozean-Eisbrecher -<br />
eine starke Ausschälung der Schichten an<br />
den Rändern bewirkt. Ein optisch initiierter<br />
Abtrag unter Einsatz der Pikosek<strong>und</strong>en-<strong>Laser</strong>technologie<br />
hat das Potential,<br />
Isolationsgräben schichtselektiv mit einer<br />
deutlich höheren Präzision zu generieren,<br />
was potentiell die Moduleffizienz verbessert<br />
<strong>und</strong> so einen Kostenvorteil bei der<br />
Herstellung liefert.<br />
In dem seit Februar 2010 laufenden FuE-<br />
Vorhaben Untersuchungen zum selekti-<br />
Abtrag einer Kupfer-Indium-Gallium-Diselenid<br />
(CIS) Schicht von 1 µm Dicke auf Molybdän durch<br />
Pikosek<strong>und</strong>en-<strong>Laser</strong>pulse.<br />
Angewandte <strong>Laser</strong>technik<br />
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