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Forschungs - Laser- und Medizin-Technologie GmbH

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Selective removal of thin films<br />

Direct-write laser ablation patterning of<br />

thin functional film such as ITO on glass<br />

and other substrates is needed for repair<br />

applications and also, in lieu of conventional<br />

photolithography, for device manufacturing<br />

and in thin-film photovoltaic applications.<br />

Thermally induced defects are<br />

minimized in the residual material by using<br />

picosecond (or sub-ps) laser technology.<br />

The recent development of high repetition<br />

rate amplified ultrafast lasers presents<br />

interesting possibilities for thin film patterning.<br />

A research project on selective<br />

removal of thermally sensitive layers, such<br />

as CIS/CIGS was started in February 2009.<br />

In addition, industrial feasibility studies in<br />

thin film patterning are being conducted<br />

at the LMTB laser application laboratory.<br />

Die Texturierung dünner Funktionsschichten<br />

besitzt in vielen Bereichen der Industrie<br />

eine herausragende Bedeutung. Einige Anwendungsbeispiele<br />

sind:<br />

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•<br />

•<br />

•<br />

•<br />

David Ashkenasi, Andreas Lemke, Manuela Schwagmeier<br />

Herstellung von Abisolierungskanälen<br />

Geometrisch vordefinierter Abtrag<br />

transparenter Halbeiterschichten<br />

Gezielte Bearbeitung von Leiterbahnen<br />

Abtrag dünner „low-K“-Schichten auf<br />

thermisch <strong>und</strong>/oder mechanisch sensiblen<br />

Trägermaterialien<br />

Hochpräziser Abtrag dielektrischer Schichtsysteme<br />

auf optischen Komponenten<br />

Selektiver Abtrag dünner<br />

Schichten für die Photovoltaik<br />

Für eine nachhaltige wirtschaftliche Umsetzung<br />

der technischen Vorteile von <strong>Laser</strong>bearbeitungsverfahren<br />

an thermisch<br />

<strong>und</strong> mechanisch „sensiblen“ Schichten<br />

bzw. Schichtsystemen ist insbesondere<br />

eine Minimierung der Wärme-Einflusszone<br />

von großer Bedeutung.<br />

Bei dem in der Dünnschicht-Photovoltaik<br />

noch häufig genutzten mechanischen Verfahren<br />

der Nadelritzung treten Kräfte auf,<br />

die - ähnlich wie beim Ozean-Eisbrecher -<br />

eine starke Ausschälung der Schichten an<br />

den Rändern bewirkt. Ein optisch initiierter<br />

Abtrag unter Einsatz der Pikosek<strong>und</strong>en-<strong>Laser</strong>technologie<br />

hat das Potential,<br />

Isolationsgräben schichtselektiv mit einer<br />

deutlich höheren Präzision zu generieren,<br />

was potentiell die Moduleffizienz verbessert<br />

<strong>und</strong> so einen Kostenvorteil bei der<br />

Herstellung liefert.<br />

In dem seit Februar 2010 laufenden FuE-<br />

Vorhaben Untersuchungen zum selekti-<br />

Abtrag einer Kupfer-Indium-Gallium-Diselenid<br />

(CIS) Schicht von 1 µm Dicke auf Molybdän durch<br />

Pikosek<strong>und</strong>en-<strong>Laser</strong>pulse.<br />

Angewandte <strong>Laser</strong>technik<br />

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