Untitled - KRRI 전자도서관
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그림 50. EDS analysis (a) Mo-C, (b) Cr-C, (c) W-C, (d) Ni-C<br />
그림 51은 XPS depth profile 데이터로 제작된 시편의 표면으로부터 식각하며 각 시간<br />
별로 증착된 물질의 성분량을 검출하였다. Ni-C경우에는 금속의 함량이 80%정도로 많은<br />
금속이 함유되었음을 알 수 있었다.<br />
제작된 시편의 표면 거칠기를 측정하기 위해 AFM 분석을 실시하였고 그 결과 그림<br />
52와 같이 전반적으로 surface roughness가 낮은 값을 나타내었으며 Ni-C의 박막이 가<br />
장 낮은 surface roughness 값을 나타내었다.<br />
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