Oxidation von Eisenschichten auf MgO(001)-Substraten - Universität ...
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2.1 Photoelektronenspektroskopie 2. Theoretische Grundlagen<br />
die Elektronen pro Einheit Energie und zurückgelegtem Weg die Energie (E ′<br />
- E) verlieren.<br />
Der Untergrund nach Shirley [17] wird mit<br />
I ′<br />
S(E) = IS(E) − I ′<br />
S(E0)<br />
�<br />
E ′ >E<br />
�<br />
E ′ >E0<br />
I ′<br />
S (E′ )<br />
I ′<br />
S (E′ )<br />
(2.14)<br />
berechnet. I ′<br />
S (E) ist die Intensität des Primärspektrums und IS(E) die Intensität des gemessenen<br />
Spektrums. E0 ist die größte gemessene Bindungsenergie. Bei diesem Verfahren wird<br />
angenommen, dass der Untergrund bei jeder Bindungsenergie der Elektronen proportional zu<br />
der <strong>auf</strong>summierten Intensität bei höheren kinetischen Energien ist.<br />
2.1.2.2 Elastische Streuung<br />
Elektronen können bei ihrer Trajektorie durch einen geordneten Festkörper ohne Verlust ihrer<br />
kinetischen Energie elastisch an den Atomkernen gestreut werden. Diese Streuung der Photoelektronen<br />
hat eine geringe Bedeutung für die PSE. Das am Atomkern gestreute Elektron<br />
kann als ebene Materiewelle betrachtet werden, dessen De-Broglie-Wellenlänge λ = h/pPhoton<br />
meistens kleiner ist als die Gitterkonstante eines Kristalls. Bei der elastischen Streuung wechselwirkt<br />
das Elektron nicht mit der Elektronenhülle des Atoms, sodass nur das Potenzial des<br />
Atomkerns eine Rolle spielt. Die elastisch gestreuten Elektronen verlassen die Probe unter<br />
bestimmten Winkeln und werden nur bei diesen Winkeln vom Analysator erfasst. Da unter<br />
einem festen Winkel gemessen wird, werden die meisten elastisch gestreuten Elektronen nicht<br />
erfasst. Die elastische Streuung führt deshalb zu einer geringeren Intensität des gemessenen<br />
Spektrums. Werden die gebeugten Elektronen systematisch gemessen, erhält man die Struktur<br />
der untersuchten Probe, da bei kristallinen Proben die Intensität eine ortsabhängie Funktion<br />
ist. Diese Messmethode wird als Photoelektronenbeugung (XPD: X-Ray-Photoelectron-<br />
Diffraction) bezeichnet.<br />
2.1.3 Stöchiometrische Analyse<br />
Mit den <strong>auf</strong>genommenden XPS-Spektren kann eine Oberfläche nicht nur qualitativ charakterisiert,<br />
sondern ihre Zusammensetzung auch quantitativ bestimmt werden. Die Intensität<br />
einer Photoelektronenlinie eines Elements A ohne Untergrund ist durch<br />
IA = σAD(EA)<br />
�<br />
×<br />
y<br />
�π<br />
�2π<br />
γ=0 φ=0<br />
�<br />
LA(γ)<br />
NA(x, y, z)exp<br />
x<br />
�<br />
�<br />
y<br />
J0(x, y)T (x, y, γ, φ, EA) (2.15)<br />
−z<br />
λM(EA · cos θ)<br />
�<br />
dzdydxdφdγ (2.16)<br />
gegeben [14]. Dabei ist σA der Photoionisations-Wirkungsquerschnitt, der die Wahrscheinlichkeit<br />
angibt, mit der unter dem gegebenen Photonenfluss pro Einheitsfläche in einer bestimmten<br />
Zeit ein Übergang im Element A angeregt wird. D(EA) ist die Detektionseffizienz<br />
des Spektrometers und ist abhängig <strong>von</strong> der kinetischen Energie EA der Photoelektronen.<br />
LA(γ) ist die Winkelabhängigkeit der Emission <strong>von</strong> Photoelektronen. γ ist der Winkel<br />
zwischen einfallendem Röntgenstrahl und der Analysatoröffnung. φ ist der Drehwinkel zwischen<br />
Einfallsrichtung des Strahls und der Abnahmerichtung des Analysators in der Ebene<br />
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