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Oxidation von Eisenschichten auf MgO(001)-Substraten - Universität ...

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2.1 Photoelektronenspektroskopie 2. Theoretische Grundlagen<br />

die Elektronen pro Einheit Energie und zurückgelegtem Weg die Energie (E ′<br />

- E) verlieren.<br />

Der Untergrund nach Shirley [17] wird mit<br />

I ′<br />

S(E) = IS(E) − I ′<br />

S(E0)<br />

�<br />

E ′ >E<br />

�<br />

E ′ >E0<br />

I ′<br />

S (E′ )<br />

I ′<br />

S (E′ )<br />

(2.14)<br />

berechnet. I ′<br />

S (E) ist die Intensität des Primärspektrums und IS(E) die Intensität des gemessenen<br />

Spektrums. E0 ist die größte gemessene Bindungsenergie. Bei diesem Verfahren wird<br />

angenommen, dass der Untergrund bei jeder Bindungsenergie der Elektronen proportional zu<br />

der <strong>auf</strong>summierten Intensität bei höheren kinetischen Energien ist.<br />

2.1.2.2 Elastische Streuung<br />

Elektronen können bei ihrer Trajektorie durch einen geordneten Festkörper ohne Verlust ihrer<br />

kinetischen Energie elastisch an den Atomkernen gestreut werden. Diese Streuung der Photoelektronen<br />

hat eine geringe Bedeutung für die PSE. Das am Atomkern gestreute Elektron<br />

kann als ebene Materiewelle betrachtet werden, dessen De-Broglie-Wellenlänge λ = h/pPhoton<br />

meistens kleiner ist als die Gitterkonstante eines Kristalls. Bei der elastischen Streuung wechselwirkt<br />

das Elektron nicht mit der Elektronenhülle des Atoms, sodass nur das Potenzial des<br />

Atomkerns eine Rolle spielt. Die elastisch gestreuten Elektronen verlassen die Probe unter<br />

bestimmten Winkeln und werden nur bei diesen Winkeln vom Analysator erfasst. Da unter<br />

einem festen Winkel gemessen wird, werden die meisten elastisch gestreuten Elektronen nicht<br />

erfasst. Die elastische Streuung führt deshalb zu einer geringeren Intensität des gemessenen<br />

Spektrums. Werden die gebeugten Elektronen systematisch gemessen, erhält man die Struktur<br />

der untersuchten Probe, da bei kristallinen Proben die Intensität eine ortsabhängie Funktion<br />

ist. Diese Messmethode wird als Photoelektronenbeugung (XPD: X-Ray-Photoelectron-<br />

Diffraction) bezeichnet.<br />

2.1.3 Stöchiometrische Analyse<br />

Mit den <strong>auf</strong>genommenden XPS-Spektren kann eine Oberfläche nicht nur qualitativ charakterisiert,<br />

sondern ihre Zusammensetzung auch quantitativ bestimmt werden. Die Intensität<br />

einer Photoelektronenlinie eines Elements A ohne Untergrund ist durch<br />

IA = σAD(EA)<br />

�<br />

×<br />

y<br />

�π<br />

�2π<br />

γ=0 φ=0<br />

�<br />

LA(γ)<br />

NA(x, y, z)exp<br />

x<br />

�<br />

�<br />

y<br />

J0(x, y)T (x, y, γ, φ, EA) (2.15)<br />

−z<br />

λM(EA · cos θ)<br />

�<br />

dzdydxdφdγ (2.16)<br />

gegeben [14]. Dabei ist σA der Photoionisations-Wirkungsquerschnitt, der die Wahrscheinlichkeit<br />

angibt, mit der unter dem gegebenen Photonenfluss pro Einheitsfläche in einer bestimmten<br />

Zeit ein Übergang im Element A angeregt wird. D(EA) ist die Detektionseffizienz<br />

des Spektrometers und ist abhängig <strong>von</strong> der kinetischen Energie EA der Photoelektronen.<br />

LA(γ) ist die Winkelabhängigkeit der Emission <strong>von</strong> Photoelektronen. γ ist der Winkel<br />

zwischen einfallendem Röntgenstrahl und der Analysatoröffnung. φ ist der Drehwinkel zwischen<br />

Einfallsrichtung des Strahls und der Abnahmerichtung des Analysators in der Ebene<br />

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