Cap 11 Fotoresisit Uno e Due Fotoni - Scienza dei Materiali
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Resine a base di poli(vinil)cinnammato<br />
*<br />
O<br />
*<br />
n<br />
O<br />
hv<br />
ciclodimerizzazione<br />
fotoindotta<br />
*<br />
O<br />
*<br />
n<br />
O<br />
solubile<br />
O<br />
*<br />
*<br />
n<br />
Insolubile – resist negativo<br />
KPR – brevetto Eastman Kodak 1953<br />
<strong>11</strong><br />
Assorbimento cinnammati 290 nm<br />
Emissione lampade Hg > 350 nm<br />
CH 3<br />
N<br />
S<br />
O<br />
fotosensibilizzatori<br />
Pho.B.O.S.
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