Cap 11 Fotoresisit Uno e Due Fotoni - Scienza dei Materiali
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Resine a base bis-azidica<br />
* *<br />
n<br />
Poli(isoprene)<br />
acidi di Lewis<br />
* *<br />
n<br />
Elevata adesione, bassa T g<br />
CH 3<br />
N<br />
N 3 N<br />
O<br />
3<br />
N<br />
hv<br />
O<br />
- N 2<br />
N<br />
addizione<br />
*<br />
polimero<br />
CH 3<br />
CH 3<br />
ossidazione<br />
inserzione<br />
HN<br />
NO x<br />
13<br />
disattivazione<br />
Reticolazione – resist negativo<br />
Pho.B.O.S.