Cap 11 Fotoresisit Uno e Due Fotoni - Scienza dei Materiali

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Limiti dei resists a radicali liberi • Sia la chimica dei cinnammati che quella delle bis azidi è ossigeno-sensibile • Tutte le formulazioni basate sulla chimica dei radicali liberi comportano rigonfiamento durante lo sviluppo Preferibili perché preservano film e maschera 14 Pho.B.O.S.
Dry-film photoresists – polimerizzazione fotoindotta (PIP) poliolefina photoresist poliestere substrato 1. Rimozione poliolefina 2. Laminazione (a caldo) 3. Esposizione (il poliestere protegge dall’ossigeno) 4. Rimozione del poliestere 5. Sviluppo 15 RISTON – Brevetto du Pont 1968 Pho.B.O.S.
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