Cap 11 Fotoresisit Uno e Due Fotoni - Scienza dei Materiali
Cap 11 Fotoresisit Uno e Due Fotoni - Scienza dei Materiali
Cap 11 Fotoresisit Uno e Due Fotoni - Scienza dei Materiali
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
Resists chimicamente amplificati- PAG<br />
L’azione esercitata dall’acido fotoprodotto è catalitica<br />
H 3 C<br />
O<br />
O<br />
CH 3<br />
CH 3<br />
CH 3<br />
H + fotogenerato<br />
H 3 C<br />
O CH 3 H<br />
O<br />
H<br />
O<br />
H CH 3<br />
H H 3 C OH<br />
H +<br />
Ad un singolo fotone assorbito corrispondono fino a <strong>11</strong>00 siti attivati<br />
Elevatissiva sensibilità<br />
Ridotti tempi di esposizione<br />
23<br />
Questa formulazione è circa due ordini di grandezza più efficace di una tipica<br />
resina novolacca DDQ<br />
Pho.B.O.S.
Change language