12.07.2015 Views

SP - UMEL - Vysoké učení technické v Brně

SP - UMEL - Vysoké učení technické v Brně

SP - UMEL - Vysoké učení technické v Brně

SHOW MORE
SHOW LESS
  • No tags were found...

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Návrh analogových integrovaných obvodů (BNAO) 45Nejpoužívanějším typem rezistoru v CMOS technologiích je Poly-Si rezistor. Je to typ,který nejefektivněji využívá plochy. Rezistivita mezi body A a B je uváděna nejčastěji vjednotkách ohm/sq (ohm per square). Běžná hodnota polySi je kolem 10 ohm/sq, ale můžemedosáhnout až 200 ohm/sq pokud odstraníme vrstvu vzniklou salicidací.V řezu strukturou rezistoru na Obr. 11je vidět, že materiál (směs Si a metalu,salicidace) použitý ke zlepšení vodivosti je nanášen na povrch polySi a vytváří vodivou cestu,která snižuje celkový odpor struktury. Poznamenejme, že díky použití mělké trench izolaceoxidové vrstvičky, které odděluje PolySi rezistor od substrátu a ostatních vodivých míst,umožňuje použít poměrně vysokých polarizačních napětí (10V až 100V!). Bohužel je oxidvelmi špatným vodičem tepla, což limituje ztrátový výkon a jeho odvod ve formě tepelnéhovyzařování.Obr. 11 Řez strukturou polySi rezistorůPoužijeme-li strukturu využívající polySi můžeme lépe čelit problémům s odstíněním.PolySi není “potopena” přímo v substrátu a tak jsou I tyto parazitní kapacity mnohem menšínež v případě rezistoru vytvořeného pomocí difúze. Ke stínění je možno využít jámu (vhodně

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!