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Technische Universität <strong>Berlin</strong><br />
Institut für <strong>Mikroelektronik</strong><br />
Lukas Bauer<br />
Dissertation<br />
Perspektiven des modernen ASIC-Designs<br />
Kapitel 4.3<br />
Seite 55<br />
Zum anderen drohen die Rechenzeiten der Programme unzumutbar zu werden, da die Anzahl der<br />
auszuführenden Operationen beim Placement und Routing <strong>mit</strong> einer Potenz der Leitungsanzahl<br />
zunimmt, die Rechenleistung der eingesetzten Workstations aber nicht im gleichen Maße steigt.<br />
Dieses Problem kann nur durch effizientere, nur linear wachsende Algorithmen gelöst werden.<br />
Einen wesentlichen Beitrag zur Automatisierung und zur Verkürzung der Programmlaufzeiten<br />
pro Gatter stellt das in Abschnitt 4.3.2 vorgestellte Timing Driven Buffer Sizing dar, da hierdurch<br />
die Anzahl der Iterationen bei der Optimierung der Platzierung verringert werden kann und große<br />
bis zur Logiksynthese zurückführende Designzyklen wegfallen. Das erste Programm, das diesen<br />
Ansatz verfolgte, war 1996 „Epoch“ von Cascade Design Automation, das bei der Entwicklung<br />
eines 3D-Grafikprozessors <strong>mit</strong> 5 Millionen Transistoren [A-10] eingesetzt wurde.<br />
Neben timinggesteuerten Platzierungs- und Verdrahtungsfunktionen umfasst Epoch außerdem<br />
Memory- und Standardzellgeneratoren. Bei Verwendung einer technologieübergreifenden<br />
Bibliothek ist die Software in der Lage, die in der gewählten Technologie benötigten Zellen<br />
anhand von Technologieparametern als Layout zu erzeugen und ihr Zeitverhalten zu analysieren.<br />
Dies ermöglicht einen schnellen Technologiewechsel ohne Adaption der Library und stellt für<br />
das Timing Driven Buffer Sizing unabhängig von den Bibliotheken der Hersteller alle Zellen in<br />
ausreichend vielen Treiberstärken zur Verfügung.<br />
Besonders vorteilhaft ist ein solches technologieübergreifendes Library-Konzept bei Speichern<br />
und Pad-Zellen, da wegen der einheitlichen Zell- und Signalnamen die technologiespezifische<br />
Sonderbehandlung entfallen kann. Gleichzeitig wird ein Höchstmaß an Flexibilität und Automatisierung<br />
erreicht: Bei Speichern genügt die Auswahl des Speichertyps und die Angabe der Parameter<br />
wie Adresslänge und Wortbreite; das Layout des Speichers wird daraufhin automatisch<br />
generiert und eingesetzt.<br />
Für den I/O-Bereich können sogar in Abhängigkeit von Pad-Anzahl und Core-Fläche automatisch<br />
Pad-Zellen <strong>mit</strong> beliebigem Aspect Ratio (Kantenlängenverhältnis) erzeugt werden. Ohne<br />
diese Funktion ist die Auswahl in der Regel auf höchstens zwei Pad-Geometrien beschränkt, so<br />
dass sich bei Schaltungen <strong>mit</strong> sehr wenigen I/Os (Core Li<strong>mit</strong>ed Designs) Lücken zwischen den<br />
Pad-Zellen und bei sehr hochpoligen ASICs (Pad Li<strong>mit</strong>ed Designs) Freiflächen im Core-Bereich<br />
ergeben. In beiden Fällen kann durch die optimale Anpassung der Padgeometrien Chipfläche eingespart<br />
werden.<br />
Bemerkenswert war für die damalige Zeit auch der Grad der Automatisierung von Epoch bei der<br />
gesamten Layouterstellung. Zumindest theoretisch konnte ein komplettes Design, bestehend aus<br />
Standardzellgruppen, Datenpfaden, Multiplizierern, Speichern und Pad-Zellen, von der Netzliste<br />
ausgehend in einem Durchgang automatisch in ein vollständiges Layout unter Einhaltung der<br />
Timing-Vorgaben umgesetzt werden. Ungünstigerweise blieb die Qualität der programmtechnischen<br />
Umsetzung von Epoch weit hinter der algorithmischen Konzeption zurück. Diverse Einschränkungen,<br />
Programmabstürze und teilweise gravierende Fehler in der Timing-Analyse<br />
führten dazu, dass sich das Programm am Markt nicht durchsetzten konnte.<br />
So war auch die Layouterstellung des 3D-Grafikprozessors nur möglich, indem teilweise durch<br />
Manipulationen der internen Datenbasis von Epoch und teilweise sogar durch Modifikationen der<br />
ausführbaren Programme selbst Unzulänglichkeiten ausgeglichen wurden, so z. B. Fehler bei<br />
der parametrisierten Erzeugung von Addierern und eine Beschränkung des Pad Pitch auf minimal<br />
100μm. Auch beim Power-Routing musste eine eigene Lösung entwickelt werden, da Epoch<br />
nicht in der Lage war, die Leiterbahnbreite an die jeweilige Strombelastung anzupassen und so<br />
die Einhaltung der zulässigen Stromdichte zu gewährleisten. Da Epoch beim Routing nur drei<br />
Metallisierungsebenen unterstützte, der verwendete 0,35μ-CMOS-Prozess von TSMC aber vier