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Plenarvorträge - DPG-Tagungen

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Kurzzeitphysik Hauptvorträge<br />

Hauptvortrag K I Di 10:30 A<br />

Gasentladungsbasierte Strahlungsquellen im extremen Ultraviolett<br />

— •Klaus Bergmann — Institut für Lasertechnik, Steinbachstr.<br />

15, 52074 Aachen<br />

Die Erzeugung von extrem ultravioletten Licht aus dichten, heissen<br />

Plasmen aus einer Gasentladung wird seit vielen Jahrzehnten untersucht.<br />

Getrieben durch die Aktivitäten der Halbleiterindustrie im Bereich der<br />

extrem ultraviolett Lithographie ist allerdings erst in den letzten Jahren<br />

ein enormer technologischer Fortschritt unter den Aspekten wie Lebensdauer,<br />

mittlere Strahlungsleistung oder Wiederholfrequenz erzielt worden.<br />

In diesem Vortrag wird der Entwicklungsstand von Quellen für den Einsatz<br />

in der EUV-Lithographie vorgestellt, für die mittlere Strahlungsleistungen<br />

im Kilowattbereich bei Frequenzen über 7 Kilohertz und Lebensdauern<br />

über 10 10 Pulse gefordert werden. Ferner wird auf das Potenzial<br />

für mögliche Anwendungen solcher Strahlungsquellen auch ausserhalb<br />

des Einsatzes in der Halbleiterindustrie eingegangen.<br />

Hauptvortrag K II Di 11:00 A<br />

Elektronenstrahlangeregte Ultraviolettlichtquellen — •A. Ulrich<br />

1 , A. Görtler 2 , A. Hohla 2 , G. Kornfeld 3 , R. Krücken 1 , A.<br />

Morozov 1 , F. Mühlberger 4 , J. Piel 2 , R. Steinhübl 1,3 , J. Wieser<br />

2 und R. Zimmermann 4,5,6 — 1 TU- München, Fak. f. Physik E12,<br />

85748 Garching — 2 TuiLaser AG, 82110 Germering — 3 THALES Electron<br />

Devices, 89077 Ulm — 4 GSF, Inst. f. Ökol. Chemie, 85764 Neuherberg<br />

— 5 BIFA, 86167 Augsburg — 6 Univ. Augsburg, Inst. f. Physik,<br />

86159 Augsburg<br />

Die Lichtemission dichter Gase bei der Anregung mit Elektronenstrahlen<br />

von typ. 15keV kann sowohl für grundlegende Studien in der Atomund<br />

Molekülphysik als auch für neuartige Lichtquellen genutzt werden.<br />

Die niedrige Teilchenenergie führt zu hohem Energieverlust der Elektronen<br />

im Gas und damit zu kurzer Reichweite und hoher Leistungsdichte.<br />

Technisch wurde dies durch die Verwendung sehr dünner (300nm) Keramikfolien<br />

als Strahleintrittsfenster möglich. Die Lichtemission wird vom<br />

optischen Zerfall der Excimermoleküle dominiert. Es wird diskutiert, welche<br />

weiteren Emissionen durch Energietransferprozesse auf andere Gase<br />

erreicht werden können. Eine weitere Zielsetzung ist es, Leistungsdichten<br />

zu erzielen, die bis an die Grenzen heranreichen, bei denen die Excimerbildung<br />

nicht mehr dominiert und das Gas durch die Elektronenstrahlanregung<br />

in ein Plasma verwandelt wird.<br />

Gefördert durch: BFS, DFG, MLL<br />

Hauptvortrag K III Di 14:45 A<br />

Aufschluss und Abtötung biologischer Zellen mit Hilfe starker<br />

gepulster elektrischer Felder — •Hansjoachim Bluhm —<br />

a: Forschungszentrum Karlsruhe, Institut für Hochleistungsimpuls- und<br />

Mikrowellentechnik, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-<br />

Leopoldshafen<br />

Mit Hilfe starker gepulster elektrischer Felder können irreversible Poren<br />

in den Membranen biologischer Zellen und ihrer Organellen induziert<br />

werden. Dadurch kann es zum Ausfluss des Zytoplasmas und der Zellinhaltsstoffe<br />

kommen. Die Methode kann daher sowohl zur effektiven<br />

Gewinnung von Grundstoffen für die chemische, pharmazeutische und<br />

Nahrungsmittelindustrie als auch zur Abtötung von Mikroorganismen in<br />

Hauptvorträge<br />

aquatischen Systemen angewendet werden. Bei der ersten Anwendung<br />

können nicht nur die Ausbeuten an Nähr- und Rohstoffen erhöht werden,<br />

sondern auch die Produktreinheit verbessert und die Verfahrensund<br />

Energiekosten gesenkt werden. Die zweite Anwendung vermeidet unerwünschte<br />

Nebeneffekte, die häufig bei chemischen Desinfektionsverfahren<br />

auftreten.<br />

In dem Beitrag werden die biophysikalischen Vorgänge, die zur Permeabilisierung<br />

der Zellmembranen führen, beschrieben, die Hochleistungsimpulsgeneratoren<br />

vorgestellt, die für den großtechnischen Einsatz dieser<br />

Verfahren notwendig sind, sowie der Stand der Entwicklung und noch zu<br />

bewältigende Probleme diskutiert.<br />

Hauptvortrag K IV Mi 10:30 A<br />

Scheibenlaser - Ergebnisse und Skalierung — •Adolf Giesen —<br />

Institut für Strahlwerkzeuge, Universität Stuttgart, Pfaffenwaldring 43,<br />

70569 Stuttgart<br />

In diesem Beitrag werden die Ergebnisse zum Scheibenlaser zusammenfassend<br />

dargestellt. Dabei werden die aktuellen Ergebnisse für Dauerstrichlaser,<br />

Q-switched Laser und Ultrakurzpulsverstärker eingehend<br />

erörtert. Anhand des Designs werden die prinzipiellen Ideen des Scheibenlasers<br />

erläutert und die Vorteile für den Bau von Hochleistungslasern<br />

abgeleitet. Weiterhin werden die Skalierungsgesetze diskutiert, die zeigen,<br />

dass mehr als 10 kW Leistung aus einer einzigen Scheibe im Dauerstrich-<br />

Betrieb extrahiert werden können. Die extrahierbare Pulsenergie aus einer<br />

Scheibe kann mehr als 1 J betragen. Im zweiten Teil des Vortrags<br />

wird die Übertragung des Konzeptes auf Halbleiterstrukturen diskutiert.<br />

Erste Ergebnisse zeigen, dass sich durch optisch gepumpte Halbleiterscheibenlaser<br />

Grundmodeleistungen von mehr als 10 W mit hohem Wirkungsgrad<br />

erreichen lassen. Durch Frequenzverdopplung lässt sich damit<br />

auch der gesamte sichtbare Spektralbereich mit hoher Leistung erreichen.<br />

Am Ende des Beitrags werden eine kurze Übersicht über den Stand der<br />

industriellen Realisierung des Scheibenlasers sowie einige Anwendungsbeispiele<br />

stehen.<br />

Hauptvortrag K V Mi 11:00 A<br />

Ultrakurzpuls-Laserablation vorgespannter Oberflächenschichten<br />

als Wirkungsmechanismus einer Silizium-<br />

Mikroaktorik zur hochgenauen Positionierung — •Gerd Eßer<br />

und Manfred Dirscherl — Bayerisches Laserzentrum gGmbH,<br />

Konrad-Zuse-Str. 2-6, 91054 Erlangen<br />

Die Funktion mikromechanischer und mikrooptischer Baugruppen<br />

muss oftmals durch hochgenaue Positionierung einzelner optischer,<br />

mechanischer oder elektronischer Komponenten sichergestellt werden.<br />

Taktile und thermisch basierte Justierverfahren stoßen aufgrund<br />

von Toleranzproblemen und Rückfederungseffekten bereits bei<br />

Größenordnungen von ca. 1µm an ihre Grenzen.<br />

Deshalb wird derzeit das laserbasierte Justierverfahren NOTILA<br />

(Non-thermal Impact Laser Adjustment) entwickelt, dessen Grundmechanismus<br />

auf der kalten Laserstrahlablation vorgespannter Oberflächenschichten<br />

basiert. Mit Hilfe dieser Technik werden durch Beschichtungen<br />

elastisch vorgespannte Siliziumaktoren stufenweise entspannt und<br />

somit geringste Lageänderungen realisiert. Der Beitrag geht auf die Interaktion<br />

ultrakurzer Laserpulse mit Materie ein und erläutert den Wirkungsmechanismus<br />

des Justierverfahrens anhand eines elastostatischen<br />

Modells. Erste experimentelle Ergebnisse werden ebenfalls vorgestellt.

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