Plenarvorträge - DPG-Tagungen
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Kurzzeitphysik Hauptvorträge<br />
Hauptvortrag K I Di 10:30 A<br />
Gasentladungsbasierte Strahlungsquellen im extremen Ultraviolett<br />
— •Klaus Bergmann — Institut für Lasertechnik, Steinbachstr.<br />
15, 52074 Aachen<br />
Die Erzeugung von extrem ultravioletten Licht aus dichten, heissen<br />
Plasmen aus einer Gasentladung wird seit vielen Jahrzehnten untersucht.<br />
Getrieben durch die Aktivitäten der Halbleiterindustrie im Bereich der<br />
extrem ultraviolett Lithographie ist allerdings erst in den letzten Jahren<br />
ein enormer technologischer Fortschritt unter den Aspekten wie Lebensdauer,<br />
mittlere Strahlungsleistung oder Wiederholfrequenz erzielt worden.<br />
In diesem Vortrag wird der Entwicklungsstand von Quellen für den Einsatz<br />
in der EUV-Lithographie vorgestellt, für die mittlere Strahlungsleistungen<br />
im Kilowattbereich bei Frequenzen über 7 Kilohertz und Lebensdauern<br />
über 10 10 Pulse gefordert werden. Ferner wird auf das Potenzial<br />
für mögliche Anwendungen solcher Strahlungsquellen auch ausserhalb<br />
des Einsatzes in der Halbleiterindustrie eingegangen.<br />
Hauptvortrag K II Di 11:00 A<br />
Elektronenstrahlangeregte Ultraviolettlichtquellen — •A. Ulrich<br />
1 , A. Görtler 2 , A. Hohla 2 , G. Kornfeld 3 , R. Krücken 1 , A.<br />
Morozov 1 , F. Mühlberger 4 , J. Piel 2 , R. Steinhübl 1,3 , J. Wieser<br />
2 und R. Zimmermann 4,5,6 — 1 TU- München, Fak. f. Physik E12,<br />
85748 Garching — 2 TuiLaser AG, 82110 Germering — 3 THALES Electron<br />
Devices, 89077 Ulm — 4 GSF, Inst. f. Ökol. Chemie, 85764 Neuherberg<br />
— 5 BIFA, 86167 Augsburg — 6 Univ. Augsburg, Inst. f. Physik,<br />
86159 Augsburg<br />
Die Lichtemission dichter Gase bei der Anregung mit Elektronenstrahlen<br />
von typ. 15keV kann sowohl für grundlegende Studien in der Atomund<br />
Molekülphysik als auch für neuartige Lichtquellen genutzt werden.<br />
Die niedrige Teilchenenergie führt zu hohem Energieverlust der Elektronen<br />
im Gas und damit zu kurzer Reichweite und hoher Leistungsdichte.<br />
Technisch wurde dies durch die Verwendung sehr dünner (300nm) Keramikfolien<br />
als Strahleintrittsfenster möglich. Die Lichtemission wird vom<br />
optischen Zerfall der Excimermoleküle dominiert. Es wird diskutiert, welche<br />
weiteren Emissionen durch Energietransferprozesse auf andere Gase<br />
erreicht werden können. Eine weitere Zielsetzung ist es, Leistungsdichten<br />
zu erzielen, die bis an die Grenzen heranreichen, bei denen die Excimerbildung<br />
nicht mehr dominiert und das Gas durch die Elektronenstrahlanregung<br />
in ein Plasma verwandelt wird.<br />
Gefördert durch: BFS, DFG, MLL<br />
Hauptvortrag K III Di 14:45 A<br />
Aufschluss und Abtötung biologischer Zellen mit Hilfe starker<br />
gepulster elektrischer Felder — •Hansjoachim Bluhm —<br />
a: Forschungszentrum Karlsruhe, Institut für Hochleistungsimpuls- und<br />
Mikrowellentechnik, Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-<br />
Leopoldshafen<br />
Mit Hilfe starker gepulster elektrischer Felder können irreversible Poren<br />
in den Membranen biologischer Zellen und ihrer Organellen induziert<br />
werden. Dadurch kann es zum Ausfluss des Zytoplasmas und der Zellinhaltsstoffe<br />
kommen. Die Methode kann daher sowohl zur effektiven<br />
Gewinnung von Grundstoffen für die chemische, pharmazeutische und<br />
Nahrungsmittelindustrie als auch zur Abtötung von Mikroorganismen in<br />
Hauptvorträge<br />
aquatischen Systemen angewendet werden. Bei der ersten Anwendung<br />
können nicht nur die Ausbeuten an Nähr- und Rohstoffen erhöht werden,<br />
sondern auch die Produktreinheit verbessert und die Verfahrensund<br />
Energiekosten gesenkt werden. Die zweite Anwendung vermeidet unerwünschte<br />
Nebeneffekte, die häufig bei chemischen Desinfektionsverfahren<br />
auftreten.<br />
In dem Beitrag werden die biophysikalischen Vorgänge, die zur Permeabilisierung<br />
der Zellmembranen führen, beschrieben, die Hochleistungsimpulsgeneratoren<br />
vorgestellt, die für den großtechnischen Einsatz dieser<br />
Verfahren notwendig sind, sowie der Stand der Entwicklung und noch zu<br />
bewältigende Probleme diskutiert.<br />
Hauptvortrag K IV Mi 10:30 A<br />
Scheibenlaser - Ergebnisse und Skalierung — •Adolf Giesen —<br />
Institut für Strahlwerkzeuge, Universität Stuttgart, Pfaffenwaldring 43,<br />
70569 Stuttgart<br />
In diesem Beitrag werden die Ergebnisse zum Scheibenlaser zusammenfassend<br />
dargestellt. Dabei werden die aktuellen Ergebnisse für Dauerstrichlaser,<br />
Q-switched Laser und Ultrakurzpulsverstärker eingehend<br />
erörtert. Anhand des Designs werden die prinzipiellen Ideen des Scheibenlasers<br />
erläutert und die Vorteile für den Bau von Hochleistungslasern<br />
abgeleitet. Weiterhin werden die Skalierungsgesetze diskutiert, die zeigen,<br />
dass mehr als 10 kW Leistung aus einer einzigen Scheibe im Dauerstrich-<br />
Betrieb extrahiert werden können. Die extrahierbare Pulsenergie aus einer<br />
Scheibe kann mehr als 1 J betragen. Im zweiten Teil des Vortrags<br />
wird die Übertragung des Konzeptes auf Halbleiterstrukturen diskutiert.<br />
Erste Ergebnisse zeigen, dass sich durch optisch gepumpte Halbleiterscheibenlaser<br />
Grundmodeleistungen von mehr als 10 W mit hohem Wirkungsgrad<br />
erreichen lassen. Durch Frequenzverdopplung lässt sich damit<br />
auch der gesamte sichtbare Spektralbereich mit hoher Leistung erreichen.<br />
Am Ende des Beitrags werden eine kurze Übersicht über den Stand der<br />
industriellen Realisierung des Scheibenlasers sowie einige Anwendungsbeispiele<br />
stehen.<br />
Hauptvortrag K V Mi 11:00 A<br />
Ultrakurzpuls-Laserablation vorgespannter Oberflächenschichten<br />
als Wirkungsmechanismus einer Silizium-<br />
Mikroaktorik zur hochgenauen Positionierung — •Gerd Eßer<br />
und Manfred Dirscherl — Bayerisches Laserzentrum gGmbH,<br />
Konrad-Zuse-Str. 2-6, 91054 Erlangen<br />
Die Funktion mikromechanischer und mikrooptischer Baugruppen<br />
muss oftmals durch hochgenaue Positionierung einzelner optischer,<br />
mechanischer oder elektronischer Komponenten sichergestellt werden.<br />
Taktile und thermisch basierte Justierverfahren stoßen aufgrund<br />
von Toleranzproblemen und Rückfederungseffekten bereits bei<br />
Größenordnungen von ca. 1µm an ihre Grenzen.<br />
Deshalb wird derzeit das laserbasierte Justierverfahren NOTILA<br />
(Non-thermal Impact Laser Adjustment) entwickelt, dessen Grundmechanismus<br />
auf der kalten Laserstrahlablation vorgespannter Oberflächenschichten<br />
basiert. Mit Hilfe dieser Technik werden durch Beschichtungen<br />
elastisch vorgespannte Siliziumaktoren stufenweise entspannt und<br />
somit geringste Lageänderungen realisiert. Der Beitrag geht auf die Interaktion<br />
ultrakurzer Laserpulse mit Materie ein und erläutert den Wirkungsmechanismus<br />
des Justierverfahrens anhand eines elastostatischen<br />
Modells. Erste experimentelle Ergebnisse werden ebenfalls vorgestellt.