Plenarvorträge - DPG-Tagungen

Kurzzeitphysik Dienstag
Fachsitzungen
– Kurzvorträge und Posterbeiträge –
K 1 Strahlungsquellen UV - VUV - EUV
Zeit: Dienstag 10:30–12:30 Raum: A
K 1.3 Di 11:30 A
Untersuchungen zur Dynamik einer Pseudofunkenentladung
in einem niederinduktiven Entladekreis — •Rainer Bischoff
und Klaus Frank — Physikalisches Institut I, Universität Erlangen-
Nürnberg, Erwin-Rommel-Str. 1, 91058 Erlangen
Die Pseudofunkenentladung ist eine stromstarke Niederdruckentladung,
die auf dem linken Ast der sogenannten Paschenkurve angesiedelt
ist und sich durch einen spezielle Hohlelektrodengeometrie auszeichnet.
Charakteristisch für den Pseudofunken ist ein komplexer, noch nicht
komplett verstandener, Verlauf der Entladung mit mehreren Phasen,
der erheblich vom externen elektrischen Kreis und dem Triggerverfahren
abhängt. Eine neue Anwendung dieser Entladeform ist der Einsatz
als Quelle intensiver EUV-Strahlung für die Lithographie.
Vorgestellt werden neue Experimente an einem speziellen, niederinduktiven
Entladekreis (L = 24nF), mit Entladeströmen I von bis zu
14kA und Stromanstiegsraten ˙ I von bis zu 3 · 1011 A/s bei variablem
Druck. Das Arbeitsgas ist Xenon. Der Einfluss eines dielektrischen Triggersystems
auf die Vorentladungsphase wurde untersucht. Messungen der
elektrischen Parameter des Entladekreises und des zeitlichen Elektronenstrahlprofils
zeigen Prozesse des Stromabreissens (Quenching) und Pinchen
während der Hochstromphase der Entladung.
Diese Arbeit wird gefördert vom Bundesministerium für Bildung und
Forschung (BMBF), Projekt 13N8132
K 1.4 Di 11:50 A
Vacuum ultraviolet emission from microhollow cathode discharges
by applying nanosecond voltage pulses — •Byung-
Joon Lee 1 , Leopold D. Biborosch 2 , Isfried Petzenhauser 1 ,
and Klaus Frank 1 — 1 Physics Department 1, University of Erlangen-
Nuremberg — 2 Al.I.Cuza University of Iasi, Romania
Microhollow cathode discharges (MHCD) are high-pressure, nonequilibrium
gas discharges that can be operated up to atmospheric pres-
K 2 Pulsed-Power-Technik
sure. A typical MHCD setup consists of two 100 µm thick electrodes
which are separated by an insulator of similar thickness. A bore hole was
drilled through the MHCD by laser or mechanical drill with a diameter
in the range of 100 µm. Recently, MHCDs are intensively investigated as
VUV emission sources in rare gases and rare gas-halides. In our experiments
argon and xenon are used as working gases. It has been shown
that the efficiency of the VUV emission in pulsed mode decreases with
the pulse duration. Therefore we use nanosecond voltage pulses and superimposition
of nanosecond voltage pulses on a d.c. MHCD. The d.c. is
used to preionize the gas in the MHCD. The efficiencies of both setups
will be compared and discussed.
K 1.5 Di 12:10 A
Untersuchungen zur Verwirklichung von XUV Lasern in laserinduzierten
Lithium und Molybdän Plasmen — •M. Born 1 , S.
Passinger 1 , V. Vorontsov 1 , B. N. Chichkov 2 und B. Wellegehausen
1 — 1 Institut für Quantenoptik, Universität Hannover, Welfengarten
1, 30167 Hannover — 2 Laserzentrum Hannover e.V.
Zur Realisierung von XUV Lasern mit Festkörper Materialien werden
zwei Laser verwendet. Ein Nanosekunden Nd:YAG Laserpuls wird auf
den Festkörper fokussiert (I ∼ 10 10 Wcm −2 ) und generiert eine niedrig
ionisierte Plasmawolke. Ein kurzer intensiver Laserpuls (0.1-3 ps,
I ∼ 10 16 Wcm −2 ) wechselwirkt nach einer kurzen Verzögerungszeit mit
der Plasmawolke und erzeugt ein hochionisiertes Plasma. Bei der Expansion
und Abkühlung dieses Plasmas kann durch Elektronenstossanregung
oder durch Rekombination eine Inversion entstehen.
Es wird über zeitaufgelöste spektroskopische Untersuchungen an Li 2+ ,
Mo 14+ und weiteren Plasmen zur Optimierung der Anregungs- und Emissionsbedingungen
berichtet. In Li 2+ wird Verstärkung durch Rekombination
auf dem 3d → 2p Übergang bei 72.9 nm angestrebt, in Mo 14+ soll
ein Elektronenstoss-gepumpter Laser bei 18.9 nm reproduziert werden.[1]
[1] T. Osaki et al., Phys. Rev. Lett. 89, 253902 (2002)
Zeit: Dienstag 14:45–17:05 Raum: A
K 2.2 Di 15:45 A
Investigations on a High Pressure Spark at very small
Electrode Distance — •Hasibur Rahaman 1 , Jürgen Urban 2 ,
Robert Stark 2 , Geoff Staines 2 , Jürgen Bohl 2 , and Klaus
Frank 1 — 1 Physics Department I, University of Erlangen-Nuremberg,
Erwin-Rommel-Straße 1, 91058 Erlangen — 2 Diehl Munitionssyteme
GmbH & Co. KG, Fischbachstr. 16, 90552 Röthenbach a.d. Pegnitz
The development of repetitive fast closing switches is of growing interest
in many fields of application. A simple spark gap switch has been
designed and built in order to investigate the switching behaviour of a
high pressure spark gap at very small electrode distance. The switch is
operated in environmental air at atmospheric pressure. Moderate voltages
up to several kilo volts have been applied at the electrodes and
the electrode gap distance has been varied between 100 micrometers up
to 500 micrometers. We have studied the breakdown characteristics of
the spark discharge, current rise time and pulse duration dependent on
various parameters. Discharge modes which have been observed during
spark gap operation will be discussed. Further experiments have been
performed in a sealed test chamber. First results using various discharge
gases at various pressures will be presented.
K 2.3 Di 16:05 A
Durch Hochenergieimpulsentladung erzeugter Schall als Werkzeug
zum Aufschluss für Kompositmaterialien. — •H. Leps, G.
Wollenberg und H.-P. Scheibe — Institut für Grundlagen der Elektrotechnik
und Elektromagnetische Verträglichkeit; Postfach 4120; 39016
Magdeburg
Beim Aufschluss von Kompositmaterialien mittels Leistungsschallimpulsfolgen
besteht die Aufgabe, Impulse ausreichenden Energieinhaltes in
kurzen Zeitabständen zu wiederholen. Weiter ist es für einen selektiven
Aufschluss notwendig die Zerkleinerungswirkung des Leistungsschallimpulses
so zu beeinflussen, dass die Ausgangssieblinie des Kompositmaterials
erkennbar wird. Dies ist durch die gezielte Gestaltung des Entladekreises
als auch durch den Aufbau des Entladungsraumes möglich. Die
dazu durchgeführten Versuche werden vorgestellt und diskutiert.
K 2.4 Di 16:25 A
Einfluss der Peakingkreisinduktivität in Excimerlasern —
•Claus Strowitzki und Stefan Falk — TuiLaser AG, Industriestr.
15, 82110 Germering
Die Induktivität des Peakingkreises liegt bei Excimerlasern im Bereich
von 8 nH. Durch die sehr niedrige Entladungsimpedanz von 0,5 Ohm ist
die elektrische Anpassung zwischen Peakingkreis und Entladung nicht
optimal.Durch Verbesserungen im Aufbau kann man die Peakingkreisinduktivität
auf 1nH reduzieren. Es werden Simulationen und Messungen
von Entladungsströmen bei verschiedenen Peakingkreisinduktivitäten gezeigt.