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Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD ...

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cIPIITII<br />

rIt! iai IHII<br />

IDYT1JIRJ IDIE 1UU 1PM 1CVI<br />

IllIBllll4IITh AU IPIFJ<br />

Introduction<br />

Choix <strong>de</strong> la couche mince <strong>d'oxynitrure</strong> <strong>de</strong> <strong>silicium</strong><br />

11.1) En fonction <strong>de</strong> l'épaisseur<br />

11.2) En fonction <strong>de</strong>s différents sites<br />

11.3) En fonction <strong>de</strong> l'indice <strong>de</strong> réfraction<br />

Conditions expérimentales <strong>de</strong>s dépôts<br />

Résultats spectroscopiques<br />

IV. 1) Résultats ellipsométriques<br />

IV.2) Résultats obtenus en IR<br />

Résultats obtenus avec les mesures électriques<br />

Mesures CCV) sur structures soli<strong>de</strong>s<br />

C(V) en milieu liqui<strong>de</strong><br />

V2.1) Etu<strong>de</strong> <strong>de</strong> la stabilité dans le temps pour l'échantillon 3<br />

V22) Mo<strong>de</strong>le du "site binding" adapté â la swface <strong>de</strong>s<br />

(oxy)nirrures <strong>de</strong> <strong>silicium</strong><br />

V.2.3) Influence du sodium sur les variations du pH<br />

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