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Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD ...

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La réponse <strong>de</strong> l'électro<strong>de</strong> <strong>de</strong> travail est analysée <strong>par</strong> un amplificateur à détection<br />

synchrone (ATNE type ADS 1). Un commutateùr électronique permet <strong>de</strong> mesurer les<br />

composantes en phase et en quadrature soit <strong>de</strong> la tension (Up et Uq), soit du courant (Ip<br />

et Iq) <strong>par</strong> rapport à la tension alternative sinusoïdale imposée.<br />

Le signal mesuré sera visualisé en permanence sur l'écran d'un oscilloscope.<br />

111.2.1.3) Cellule électrochimique <strong>de</strong> mesure.<br />

Dans la cellule <strong>de</strong> mesure en pyrex, la distance entre l'électro<strong>de</strong> <strong>de</strong> travail et la<br />

contre-électro<strong>de</strong> est constante. Un joint torique permet d'assurer une surface constante<br />

(0,3 cm2) pour l'électro<strong>de</strong> <strong>de</strong> travail et la contre-électro<strong>de</strong>. Cette cellule comprend trois<br />

ouvertures: une pour l'électro<strong>de</strong> <strong>de</strong> référence, une pour pouvoir prendre la valeur du pH<br />

<strong>par</strong> exemple (électro<strong>de</strong> <strong>de</strong> verre combinée - Tacussel) et une pour pouvoir modifier la<br />

concentration <strong>de</strong>s ions. Un agitateur magnétique permettra d'homogénéiser la solution.<br />

Pendant l'acquisition <strong>de</strong>s données, cette cellule sera recouverte d'un drap noir afin<br />

d'éviter la création <strong>de</strong> charges photoinduites dans l'hétérostructure. La cellule<br />

électrochimique est schématisée sur la figure 14.<br />

A) vue latérale<br />

43<br />

Electro<strong>de</strong> <strong>de</strong> référence<br />

Electro<strong>de</strong> <strong>de</strong> travail<br />

Plexiglass<br />

connexion<br />

Platine<br />

Figure 14: Schéma <strong>de</strong> la cellule électrochimique <strong>de</strong> mesure.<br />

111.2.2) Mesures <strong>de</strong> capacité sur structure MOS.<br />

B) vue frontale<br />

connexion<br />

Electro<strong>de</strong><br />

<strong>de</strong> travail<br />

111.2.2.1) Présentation <strong>de</strong> la métho<strong>de</strong>.<br />

Les différentes mesures électriques seront faites avec <strong>de</strong>s pointes sur <strong>de</strong>s micro-<br />

capacités (figure 15 ) pré<strong>par</strong>ées <strong>par</strong> le procédé <strong>de</strong> la lithographie. Les mesures sont faites

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