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Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD ...

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39<br />

OÙ aj représente la <strong>de</strong>nsité <strong>de</strong> charge <strong>de</strong> la double couche (modèle <strong>de</strong> Gouy-<br />

Chapman-Stern) (a0 et 'vo ayant déjà été définis comme étant respectivement la charge <strong>de</strong><br />

surface et le potentiel <strong>de</strong> surface). La première composante correspond à la capacité totale CT<br />

<strong>de</strong> la double-couche électrochimique et est purement électrostatique.<br />

CT - CH+d<br />

(11.10)<br />

CH et Cd représentant les capacités <strong>de</strong> la couche d'Helmholtz et <strong>de</strong> la couche diffuse.<br />

Dans le cas d'un électrolyte concentré, l'épaisseur <strong>de</strong> la couche diffuse <strong>de</strong>vient très faible, sa<br />

capacité augmente, et <strong>par</strong> conséquent on aura: i/CT = i/CH.<br />

La secon<strong>de</strong> composante représente les variations <strong>de</strong> a0 avec le potentiel <strong>de</strong> surface.<br />

Puisque dans cette structure (on suppose que l'isolant est <strong>par</strong>fait et donc bloquant) les<br />

phénomènes faradaiques sont très faibles, si l'on travaille à <strong>de</strong>s concentrations supérieures à<br />

0,1 M, Zie peut être assimilé à la capacité d'Helmholtz laquelle est approximativement égale<br />

à 20 tF/cm2. En outre, la capacité <strong>de</strong> l'isolant C1 (# 0.01 j.iF/cm2) étant bien inférieure à CH,<br />

il est possible <strong>de</strong> négliger CH <strong>par</strong> rapport à C1 dans le circuit équivalent <strong>de</strong> la structure EIS.<br />

Déter,nination <strong>de</strong> l'impédance due au semi-conducteur [3 7,40]<br />

Il faudra travailler avec une faible amplitu<strong>de</strong> <strong>de</strong> signal alternatif (< 20 mV r.m.$) <strong>de</strong><br />

façon à ce que la modulation du niveau <strong>de</strong> Fermi ne soit pas trop gran<strong>de</strong>. Dans ce cas, la<br />

variation <strong>de</strong> la charge du semi-conducteur (Q) et le potentiel <strong>de</strong> surface du semi-conducteur<br />

(l1s) sont assimilables à une capacité différentielle:<br />

C5<br />

dQsc<br />

dills<br />

Ainsi selon la tension continue appliquée et la fréquence, on définit plusieurs<br />

zones <strong>de</strong> fonctionnement.<br />

Régime d'accumulation: La capacité du semi-conducteur n'est due qu'aux variations <strong>de</strong>s<br />

porteurs majoritaires. Ceux-ci étant très <strong>de</strong>nses, leur temps <strong>de</strong> réponse sera faible. On aura<br />

même pour <strong>de</strong>s fréquences <strong>de</strong> modulation élevée (<strong>de</strong> l'ordre du GHz): Cx» C1 (figure 12).<br />

Puisque ces capacités sont en série, seule interviendra dans les mesures<strong>de</strong> capacité totale, la<br />

capacité <strong>de</strong> l'isolant. Le système est donc purement capacitif.<br />

Z=Rs-j/CjÚ)<br />

(11.12)

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