Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD ...

76
satisfaisante, il sera possible ultérieurement d'adapter cette technique à la réalisation de
REFETs.
H) Préparation d'une membrane oxvnitrure de silicium rendue
insensible au pH par greffage chimiaue
11.1') Réaction de greffage.
La réaction des groupements aminosilanes avec les groupements OH de la silice
étant connue comme ayant un bon rendement (Cf W. 1), on s'attend à ce que la réaction
inverse s'effectue aussi bien (Cf IV.2).
ESi-OH + >N-Si-R > Si-O-Si-R + >NH (IV.1)
I
I
Si-NH2 + HO-Si-R > Si-O-Si-R + NH3 (IV.2)
I
Pour éviter tout contact avec l'air ambiant qui aurait pour rôle de créer des sites
SiOH à la surface avant le greffage, un sas sous atmosphère d'azote à la sortie du
réacteur est prévu (cf chapitre 2). Ainsi les échantillons seront directement plongés dans
une solution réactive, avant d'être greffés.
En ce qui concerne la molécule d'hydroxysilane utilisée, elle n'est pas
commercialisée, il faudra donc dans un premier temps la synthétiser (cf chapitre 2).
I
Cl-Si-(CH2) 17-CH3 > HO-Si-(CH2) 17-CH3 (IV.3)
I
11.2) Caractérisation du greffage.
H20,O°C I
11.2.1') Caractérisation du greffage sur les structures Si/SiO2ISiOxliH7.
11.2.1.1') Caractérisation du greffage par mesures électriques.
Pour vérifier que le greffage a bien eu lieu, des mesures C(V) en milieu liquide
sont faites sur les échantillons. Avant greffage la réponse était nemstienne (cf chapitre 3),
après greffage cette réponse devrait diminuer à cause de la difficulté qu'auraient les
protons à atteindre cette surface ainsi que par la diminution des sites sensibles
SiNH/NH2. Plus cette réponse sera faible, plus la méthode sera intéressante pourréaliser
un REFET.
I
I
I
I