Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD ...

D'après les valeurs des constantes d'équilibre, on obtient:
[H]2.[SiO-]
Kl.K2 -
[Si-OH2]
d'où en combinant les équations (111.7) et (111.12):
65
[Ht] = (Ki.K2)l/2expYoFs(as)
(111.13)
En définissant FS(as) = [Si-OH2]/[Si-Oi
Le point de charge nulle (PZC), correspond au pH pour lequel la charge de
surface est nulle. Dans notre cas, ce sera pour [Si-0H2i = [Si-O-1. Dans ce cas là on
aura: [H] = (K1.K2)1/2, et l'on pourra écrire:
2,303 (pHzc - pH) = Y0 + Log FS(S)
(111.14)
Détermination de FS(czs) en fonction des charges supeificielles de su,face.
Puisque FS(a5) = [Si-OH2]/[Si-Oi 1/2, alors
[Si-OH2]
d'où en combinant avec (111.10), [Si-0] -
Na
[Si-O-1 - F()2 ' F(a)2 -1
FS(S)2.N OES
De même [Si-OH2] - F(a)2-1
De plus en combinant ces expressions avec (111.6), on obtient:
[Si-OH] -
FS(S)2.N5S. (KS)l/2
F(a)2- i
(111.15)
En remplaçant ces différentes valeurs dans l'expression (111.8), on obtient une
équation du second degré (F(ct)2 (a - i) + (KS)h/2aF5(ct9 + (a+1) = 0) dont la
résolution donne la valeur de FS(ctS):
(111.12)