Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD ...

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dernière page de la thèse AUTORISATION DE SOUTENANCE Vu les dispositions de l'arrêté du 5 Juillet 1984, modifié par l'arrêté du 21 Mars 1988 et l'arrêté du 23 Novembre 1988, Vu la demande du Directeur de Thèse Mr N. JAFFREZIC Dr CNRS - Physicochimie des Interfaces - ECL - ECULLY et les rapports de (69), Mr J.L. ROBERT Professeur Université Montpellier II - Montpellier, Mr J. VEDEL Directeur CNRS - ENSCP - Paris, Monsieur CI-IO\TEL.ON J iiMrc est autorisé à soutenir une thèse pour l'obtention du titre de DOCTEUR Spécialité : DISPOSITIFS DE L'ELECTRONIQUE INTEGREE Fait à Ecully, le 3 mai 1991 P/Le Directeur de l'E.C.L. Le Directeur de l'Administration de la Reche che F. LEBOEUF
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N° d'Ordre: ECL 91-12 Année 1991
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