Préparation de couches minces d'oxynitrure de silicium par PECVD ...

FS(OES) -
OES
1+
lOES
66
KS. (OES)2
4(1-b)
C'est cette fonction F qui représente l'écart entre la réponse nernstienne et la réponse
réelle de la surface au pH. Par la suite on appelera FS = FS(S)
Par ailleurs on définit la fonction inverse as(FS) comme étant:
(Fs)2 - i
S(FS) - (FS)2 + (KS)l/2Fs + I
2- Cas des oxynitrures de silicium.
En reliant les équations 111.5 et 111.7 ii est possible d'établir:
C'est à dire:
Ou encore:
On posera FT
FH+1 - KT [NH3]
L J -
[NH2] .exp
(111.17)
NH3
2,303 log [H} = 2,303 log pKT + Log NH2 + Y0 (111.19)
2,303 (PKT - pH) =
[NH3] [NH31
- [NH2]
- [NH3]
[NH3] + Y0 (111.20)
+
- [NH3]
3- Cas de la surface totale (silice + oxynitrure de silicium).
Relations existant entre les deux types de sites.
Le nombre total de sites N0t sera la somme des sites N et N. D'où
NS NT
N0t = N + N'ce qui implique.+ -P+(f = 1 (111.21)
f5 = fSiOH et (1' = fSiNH/NH2
La charge superficielle totale normalisée (a) à la surface sera donc:
(111.16)
(111.18)