W pracy pokazano wpływ orientacji i jakości przygotowania(epi-ready) podłoży GaAs przez producenta na morfologiępowierzchni otrzymywanych na nich warstw HgCdTe. Podanonajważniejsze zoptymalizowane parametry wzrostu warstwHgCdTe o orientacji (111), między innymi ze względu na morfologiępowierzchni.Pomimo uzyskania na podłożach GaAs o orientacji (211)warstwy HgCdTe o orientacji (211) i jakości powierzchni porównywalnejz warstwami o orientacji (111) nie kontynuowanona nich badań z powodu małych perspektyw uzyskania z nichdetektorów o parametrach dorównujących, a tym bardziejprzewyższających parametry, jakie uzyskują detektory wykonanena bazie warstw o orientacji (111).Duże nadzieje budzą natomiast wyniki badań nad wykorzystaniemnowego prekursora (MATe) w początkowej faziewzrostu. Na podłożach GaAs o orientacji (100) uzyskano monokrystalicznewarstwy buforowe CdTe o orientacji (100),wolne od wzgórków wzrostu. Badania te są obecnie kontynuowane.Praca naukowa finansowana ze środków na naukę w latach2008-2010 jako projekt badawczy zamawiany PBZ - MNiSW02/I/2007.Literatura[1] Piotrowski J.: A new method of obtaining CdxHg1-xTe thin films.Electron Technology 5, 87-89 (1972).[2] Piotrowski J., Galus W., Grudzien M.: Near room-temperature IRphotodetectors. Infrared Physics 31, 1-48 (1991).[3] Piotrowski J., Rogalski A.: High-Operating-Temperature InfraredPhotodetectors. Ed. SPIE, Bellingham (2007).[4] Rogalski A.: HgCdTe infrared detector material: history, statusand outlook. Rep. Prog. Phys. 68, 2267-2336 (2005).[5] Irvine S.J.C.: Metal-organic vapour phase epitaxy. w NarrowgapII-VI Compounds for Optoelectronic and Electromagnetic Applications,s. 71-96, edytor P. Capper, Chapman@Hall, London,1997.[6] Cinader G., Raizman A., Sher A.: The effect of growth orientationon the morphology, composition, and growth rate of mercury cadmiumtelluride layers grown by metalorganic vapor phase epitaxy.J. Vac. Sci. Technol. B9, 1634-1638 (1991).[7] Almeida L. A., Groenert M., Markunas J., Dinan J. H.: Influenceof substrate orientation on the growth of HgCdTe by molecularbeam epitaxy. J. Electron. Mater. 35, 1214-1218 (2006).[8] Ghandhi S. K., Bhat I. B., Taskar N. R.: Growth and properties ofHg1-xCdxTe on GaAs substrates by organometalic vapor-phaseepitaxy. J. Appl. Phys. 59, 2253-2255 (1986).[9] Zhang L. H., Summers C. J.: A study of void defects in metalorganicmolecular-beam epitaxy grown HgCdTe. J. Electron. Mater.27, 634-639 (1998).[10] Piotrowski A., Madejczyk P., Gawron W., Kłos K., Romanis M.,Grudzień M., Piotrowski J., Rogalski A.: MOCVD growth of Hg1-xCdxTe heterostructures for uncooled infrared photodetectors.Opto-Electron. Rev. 14, 453-458 (2004).[11] Madejczyk P., Piotrowski A., Gawron W., Kłos K., Pawluczyk J.,Rutkowski J., Piotrowski J., Rogalski A.: Growth and propertiesof MOCVD HgCdTe epilayers on GaAs substrate. Opto-Electron.Rev. 13, 239-251 (2005).[12] Piotrowski A., Gawron W., Klos K., Pawluczyk J., Piotrowski J.,Madejczyk P., Rogalski A.: Improvements in MOCVD growth ofHg1-xCdxTe heterostructures for uncooled infrared photodetectors.Proc. SPIE 5957, 108-116 (2005).[13] Triboulet R., Tromson-Carli A., Lorans D., Nguyen Duy T.: Substrateissues for the growth of mercury cadmium telluride. J.Electron. Mater. 22, 827-834 (1993).[14] Maxey C. D., Fitzmaurice J. C., Lau H. W., Hipwood L. G., ShawC. S., Jones C. L., Capper P.: Current status of large-areaMOVPE growth of HgCdTe device heterostructures for infraredfocal plane arrays. J. Electron. Mater. 35, 1275-1282 (2007).[15] Wang W. S., Bhat I.: (100) or (111) heteroepitaxy of CdTe layerson (100) GaAs substrates by organometallic vapor phase epitaxy.Materials Chemistry and Physics 51, 178-181 (1997).[16] Mora-Seró I., Polop C., Ocal C., Aguiló M., Muñoz-Sanjosé V.: Influenceof twinned structure on the morphology of CdTe(111) layersgrown by MOCVD on GaAs(100) substrates. J. CrystalGrowth 257, 60-68 (2003).[17] Feldman R. D., Kisker D. W., Austin R. F., Jefers K. S., BridenbaughP. M.: A comparison of CdTe grown on GaAs by molecularbeam and organometallic vapor phase epitaxy. J. Vac. Sci.Technol. A4, 2234-2238 (1986).[18] Piotrowski A., Madejczyk P., Gawron W., Kłos K., Pawluczyk J.,Rutkowski J., Piotrowski J., Rogalski A.: Progress In MOCVDgrowth of HgCdTe heterostructures for uncooled infrared photodetectors.Infrared Physics & Technology 49, 173-182 (2007).[19] Piotrowski A., Kłos K., Gawron W., Pawluczyk J., Orman Z., PiotrowskiJ.: Uncooled or minimally cooled 10 µm photodetectorswith subnanosecond response time. Proc. SPIE, 6542,0277786X, (2007).[20] Bielecki Z., Brudnowski M., Gawron W., Pawluczyk J., PiotrowskiA., Piotrowski J.: Moduły detekcyjne dla telekomunikacjioptycznej w otwartej przestrzeni drugiej generacji. <strong>Elektronika</strong> 7-8, 95-100, (2008).[21] Piotrowski A., Gawron W., Kłos K., Rutkowski J., Orman Z., PawluczykJ., Stanaszek D., Mucha H., Piotrowski J., Rogalski A.:Niechłodzone i minimalnie chłodzone detektory średniej i dalekiejpodczerwieni nowej generacji. <strong>Elektronika</strong>, 11, 112-121 (2008).[22] Rutkowski J., Madejczyk P., Piotrowski A., Gawron W., JóźwikowskiK., Rogalski A.: Two-colour HgCdTe infrared detectorsoperating above 200 K. Opto-Electron. Rev. 16, 321-327, (2008).[23] Piotrowski A., Kłos K.: Metal-Organic Chemcal Vapor Depositionof Hg1-xCdxTe Fully Doped Heterostructures Without PostgrowthAnneal for Uncooled MWIR and LWIR Detectors. J. Electron.Mater. 36, 1052-1058 (2007).Przypominamy o prenumeracie miesięcznika <strong>Elektronika</strong> na <strong>2009</strong> r.72 ELEKTRONIKA 5/<strong>2009</strong>
Metoda funkcji Greena w modelowaniunanoelektronicznych struktur półprzewodnikowychdr inż. GRZEGORZ HAŁDAŚ 1 , prof. dr hab. inż. ANDRZEJ KOLEK 1 ,dr hab. IGOR TRALLE 2 prof. URz.1 Politechnika Rzeszowska, Katedra Podstaw Elektroniki2 Uniwersytet Rzeszowski, <strong>Instytut</strong> FizykiModelowanie przyrządów nanoelektronicznych wymagaużycia aparatu teorii kwantowej. Jest to następstwem bardzomałych rozmiarów urządzeń, co wywołuje kwantyzację pędui energii nośników ładunku. Powstają wtedy osobliwości charakterystyktransportu nośników, taka jak na przykład, magnetoopórczy charakterystyki prądowo-napięciowe wspomnianychurządzeń. Jedną z metod wyznaczania stanów kwantowychukładu oraz opisu zjawisk transportu nośników ładunku(np. elektronów) jest metoda funkcji Greena [1,2]. Dlaprzykładu, konduktancja g pomiędzy elektrodami nanostrukturydana jest wzorem Landauera [3]:m jest masą efektywna elektronu zależną od położenia(warstwy struktury) i energii. Stany kwantowe struktury, w tymfunkcję lokalnej gęstość stanów N(z,E) można wyznaczyć napodstawie funkcji Greena:(5)w którym współczynnik transmisji T jest określony przez wartośćfunkcji Greena wzorami Fishera-Lee [4]. Funkcja GreenaG(r,r’,Z) opisuje odpowiedź układu w punkcie r na zaburzeniepowstałe w punkcie r’. W szczególnym przypadku funkcję tęmożna wyrazić za pomocą operatora różniczkowego H jakorozwiązanie równania [1]:(1)(2)przy czym opóźniona funkcja Greena dana jest wzorem:(6)(7)gdzie: Z jest zmienną zespoloną o części rzeczywistej E i urojonejη. W równaniu (2) operator H jest liniowym, niezależnymod czasu Hamiltonianem, który spełnia równanie:gdzie: φ n (r), n = 1, 2,..., to funkcje własne, a E n odpowiadającetym funkcjom wartości własne.Funkcja Greena dla struktur warstwowychDla układów (przyrządów) 3D funkcja Greena jest funkcją zespoloną7 argumentów. Dla nanostruktur warstwowych, symetriatranslacyjna w kierunku prostopadłym do kierunkuz wzrostu struktury, pozwala ograniczyć ilość argumentówfunkcji. W najprostszym przypadku, gdy rozważania możnaograniczyć do nośników ładunku w jednym paśmie, np. przewodnictwa,4-argumentowa funkcja Greena jest rozwiązaniemrównania [5-9]:(3)(4)Na rysunku 1b pokazano funkcję gęstości stanówN 1D (E) ≡ ∫dzN 1D (z,k || = 0,E) obliczoną za pomocą równań (4)- (7) dla rzeczywistej struktury kwantowego lasera kaskadowegoomawianego w pracy Sirtoriego i in. [10] (rys. 1a).Funkcja gęstości stanów N 1D (E) ma lokalne maksima,których położenie na osi E określa energie E n stanów rezonansowychstruktury. Funkcje falowe φ n (z) odpowiadającetym energiom pozostają w relacji z elementami diagonalnymifunkcji G R :Wielkości |φ n (z)| 2 dla poszczególnych stanów w strukturze Sirtoriegopokazano na rys. 1a. Jeśli jest to potrzebne, czynnikfazowy funkcji falowych φ n (z) można uzyskać na podstawierachunku zaburzeń [1]:(8)(9)w którym H jest jednowymiarowym (1D) Hamiltonianem masyefektywnej zależnym od wartości wektora pędu k || w płaszczyźnieprostopadłej do z (równoległej do warstw struktury):gdzie: φ n0 (z) jest funkcją falową stanu o energii E n strukturynie zaburzonej, opisanej Hamiltonianem H 0 (H 0 = H(E C + V =0)). Na rys. 2 pokazano funkcję φ n (z) obliczoną dla stanu la-ELEKTRONIKA 5/<strong>2009</strong> 73
- Page 5 and 6:
konstrukcje technologie zastosowani
- Page 9 and 10:
Streszczenia artykułów • Summar
- Page 12 and 13:
Wyznaczanie strat propagacjiw obsza
- Page 14 and 15:
gdzie: R 0 - jest podwójnym wspó
- Page 16 and 17:
Rys. 8. Porównanie obliczeń teore
- Page 18 and 19:
Rys. 1. Schemat strukturalny system
- Page 20 and 21:
- tematyka morska będąca punktem
- Page 22 and 23:
• System dalekosiężnej identyfi
- Page 24: wdrożenia Planu implementacji stra
- Page 27 and 28: Rys. 2. Zakresy długości fal w ob
- Page 29 and 30: dycyjne lasery bazują na przejści
- Page 31 and 32: PodsumowanieRys. 6. Podział koszt
- Page 33 and 34: Występowanie zjawiska kaskady elek
- Page 35 and 36: czerwieni (0,785; 0,85 oraz 1,55 µ
- Page 37 and 38: Rys. 10. Zasada działania pierwsze
- Page 39 and 40: Ze względu na większą masę efek
- Page 41 and 42: Konstrukcje przyrządówNajwiększy
- Page 43 and 44: efektywnej nośników, co zmniejsza
- Page 45 and 46: [58] R. Bates, S. A. Lynch, D. J. P
- Page 47 and 48: W ramach projektu zbadano wpływ do
- Page 49 and 50: konania izolacji elektrycznej zasto
- Page 51 and 52: Technologia MOCVD materiałów zawi
- Page 53 and 54: kowo niska ruchliwość wynika z za
- Page 55 and 56: W Europie, prace głównie prowadzo
- Page 57 and 58: a)b)Rys. 7. Zależność koncentrac
- Page 59 and 60: pełni 90. okresów supersieci, w k
- Page 61 and 62: persieci są większe niż w HgCdTe
- Page 63 and 64: [14] Brown G.J.: Type-II InAs/GaInS
- Page 65 and 66: Rys. 2. Przykład heterostruktury f
- Page 67 and 68: a)b)Rys. 7. Spektralne charakteryst
- Page 69 and 70: [4] Piotrowski J.: Hg1-xCdxTe Infra
- Page 71 and 72: w ten sposób było dyskwalifikowan
- Page 73: Rys. 7. Zależność nierówności
- Page 77 and 78: zującej dz = a. Przy ustalonych E
- Page 79 and 80: Na rysunku 5b. pokazano gęstość
- Page 81 and 82: obszar z nią związany. Zatem gdy
- Page 83 and 84: Rys. 9. Widma PR (czarne krzywe u d
- Page 85 and 86: [4] Misiewicz J., Sęk G., Kudrawie
- Page 87 and 88: a)Rys. 1. Schemat układu pomiarowe
- Page 89 and 90: Znaczącym krokiem w kierunku wykor
- Page 91 and 92: ie przejść równej 64 wynosi 16 m
- Page 93 and 94: W tabeli 1. zebrano kilka dostępny
- Page 95 and 96: oddali się od wyrzutni na odległo
- Page 97 and 98: spektralnego 0,6...1,1 µm (lasery
- Page 99 and 100: TypProducentPaństwoPole widzenia:w
- Page 101 and 102: Konfiguracja opracowanego systemuPo
- Page 103 and 104: Rys. 8. Wykres fluktuacji amplitudy
- Page 105 and 106: Aktywna antena radiolokacyjna na pa
- Page 107 and 108: W każdym z torów jest włączony:
- Page 109 and 110: ardzo niskiego poziomu listków boc
- Page 111 and 112: Tab. 1. Rodzaje laserów na szkle i
- Page 113 and 114: Fluorescencja jest jednym z rodzaj
- Page 115 and 116: Większa szerokość linii emisyjne
- Page 117 and 118: 0,3...1,6. Im mniejsza jest wartoś
- Page 119: Zjawisko ogniskowania fototermiczne