Spektroskopia modulacyjna nanostrukturpółprzewodnikowych w zakresie bliskiej i średniejpodczerwieniprof. dr hab. JAN MISIEWICZ, dr inż. MARCIN MOTYKA,dr inż. GRZEGORZ SĘK, dr inż. ROBERT KUDRAWIECPolitechnika Wrocławska, <strong>Instytut</strong> FizykiGrupa Optycznej Spektroskopii Nanostruktur (OSN) <strong>Instytut</strong>uFizyki Politechniki Wrocławskiej ma szerokie doświadczenie wbadaniu i charakteryzacji niskowymiarowych struktur półprzewodnikowychw szczególności przeznaczonych na zakresbliskiej i średniej podczerwieni. Przede wszystkim dotyczyto spektroskopii fotoodbiciowej (lub fototransmisyjnej) i bezkontaktowegoelektroodbicia [1-5]. Metody te pozwalają wyznaczaćwidma optyczne dostarczające informacjio przejściach optycznych, analogicznie do widm absorpcji.Dzięki ich różniczkowemu charakterowi cechuje je jednakznacznie większa czułość, co pozwala na obserwację przejśćz udziałem stanów wzbudzonych, w tym tych o bardzo niskiejintensywności jak np. przejścia nominalnie zabronione przezreguły wyboru. Takie podejście eksperymentalne pozwala nawyeliminowanie efektów szkodliwego tła, zwiększenie dokładnościokreślania przejść optycznych oraz detekcję takich przejśćoptycznych, które w widmach niemodulacyjnych są trudnedo zaobserwowania. Na podstawie analizy widm modulacyjnychmożna określić także wewnętrzne pola elektrycznew strukturze półprzewodnikowej, co jest bardzo ważne w przypadkulaserów półprzewodnikowych (struktur ze złączem p-n).Wszystko to czyni spektroskopię modulacyjną użyteczną dlatechnologii i inżynierii przyrządowej, gdyż pozwala ona wyznaczyćwiele ważnych parametrów, takich jak struktura pasmowanowych materiałów i układów materiałów, nieciągłośćpasm na ich złączu, w zależności od składów oraz naprężeńwewnętrznych, a także czynników zewnętrznych jak temperaturyczy ciśnienie.Standardowy układ eksperymentalny do pomiarów fotoodbiciaPR (ang. photoreflectance) został przedstawiony narys. 1. Wiązka światła białego odbijana jest od powierzchnipróbki i jest prowadzona za pomocą układu soczewek do monochromatora,gdzie na siatce dyfrakcyjnej jest dzielone napojedyncze linie spektralne i dalej pada na detektor. Sygnałten (sygnał stałoprądowy), jak również sygnał zmiennoprądowy(związany ze zmianami wywołanymi czynnikiemmodulacyjnym np.: przerywaną wiązka laserową, czy zmiennympolem elektrycznym) filtrowane są przez fazoczuły nanowoltomierzselektywny. Ostatecznie, oba sygnały trafiają dokomputera gdzie po podzieleniu wartości napięcia (lub natężeniaprądu) składowej zmiennoprądowej do stałoprądowejprzedstawiane są w postaci widm optycznych zależności∆R/R (lub ewentualnie ∆T/T), czyli znormalizowanych widmzmian energetycznego współczynnika odbicia lub transmisji.Układ do pomiarów bezkontaktowego elektroodbica [6]CER (ang. Contactless Electroreflectance) jest analogicznydo przedstawionego na rys. 1. Jedyna różnica w obu eksperymentachpolega na zastosowania różnych zewnętrznychczynników modulujących. W przypadku PR jest to wiązka laserowa,a w przypadku CER zewnętrzne pole elektryczne. Zastosowaniepola elektrycznego jako czynnika modulującegowymaga umieszczenia badanej próbki w odpowiednio skonstruowanymkondensatorze. Próbka umieszczona jest wewnątrzkondensatora do którego, doprowadza się zmiennenapięcie rzędu 1 kV. Odległość między powierzchnią próbki,a górną okładką kondensatora (miedzianą siatką) wynosiokoło 1...2 mm. Schemat takiego kondensatora został przedstawionyna rys. 2.Eksperymenty PR i CER są eksperymentami które się uzupełniają.W przypadku badania właściwości struktur z warstwamidomieszkowanymi lepiej jest wykonać eksperymentCER niż PR. W eksperymencie PR ze względu na fakt generacjinośników podczas modulacji badanej struktury często obserwujesię w widmach tzw. oscylacje podprzerwowe [7], którezakłócają mierzone widmo optyczne. Z drugiej strony eksperymentCER pozwala badać głównie powierzchnię i skończonyRys. 1. Schemat układu pomiarowego do pomiarów fotoodbicia(w tzw. jasnej konfiguracji)Fig. 1. Schematic diagram of a standard photoreflectance setup (inthe so called bright configuration)Rys. 2. Schemat kondensatora do pomiarów bezkontaktowegoelektroodbicia, A - przednia okładka z miedzianą siatką, B - tylnamiedziana okładka, C - izolator, D - próbka, E - kontaktyFig. 2. Schematic of Capacitor. A - the top electrode with a copperwiremesh, B - the bottom copper electrode, C - isolator, D - sample,E - contacts78 ELEKTRONIKA 5/<strong>2009</strong>
obszar z nią związany. Zatem gdy istnieje potrzeba badaniawarstw położonych głęboko w strukturze lepiej zastosowaćeksperyment PR. Różne obszary zastosowań tych eksperymentówwynikają z różnych mechanizmów modulacji im towarzyszącym,co zostało szczegółowo opisane w pracy [8].Analiza widm optycznych (fotoodbiciowych) polega na modelowaniumierzonych linii spektralnych związanych z procesamiabsorpcji w badanych strukturach za pomocą formułymatematycznej [1]:gdzie: R i R’ są wartościami niezaburzoną i zaburzoną (czynnikiemmodulującym jak np. oświetlenie dodatkową wiązkąlaserową) współczynnikami odbicia, n-numer przejściaoptycznego, C j - amplituda, J - faza, E j i G j odpowiednio energiai poszerzenie modelowanej krzywej. Parametr mzwiązany jest z charakterem przejścia optycznego. Procedurataka w połączeniu z obliczeniami struktury energetycznejpozwala identyfikować przejścia optyczne oraz badaći wyznaczać parametry takie jak masa efektywna, czy przer -wa energetyczna elementów składowych badanych strukturpółprzewodnikowych.RezultatySpektroskopia modulacyjna struktur na zakrestelekomunikacyjny 1,3...1,55 µmStudnie kwantowe: Obszar spektralny 1,3...1,55 µm jest bardzoważnym obszarem z punktu widzenia zastosowań telekomunikacyjnych.Długości fali 1,3 oraz 1,55 µm to tzw. II i IIIokna transmisyjne dla których zdiagnozowano najmniejszątłumienność obecnie stosowanych światłowodów. Oznaczato, że istnieje duże zapotrzebowanie na źródła światła właśnieo takich długościach fali świetlnej. W rozdziale tym zostanieprzedstawione kilka wyników zastosowania spektroskopiimodulacyjnej do badania właściwości optycznych struktur takichjak studnie, kropki czy kreski kwantowe przeznaczonychwłaśnie do zastosowań laserowych w wymienionym zakresiespektralnym.Na rysunku 3. przedstawiono widma bezkontaktowegoelektroodbica dla studni kwantowych GaNAsSb/GaAs [9] badanychw ramach współpracy grupy z National Research Council,Ottawa (Kanada). Dzięki obserwacji w mierzonychwidmach (górny panel) wielu linii spektralnych związanychz absorpcją między poszczególnymi stanami związanymiw badanych studniach kwantowych możliwe było wyznaczenienieciągłości pasma przewodnictwa CBO (ang. ConductionBand Offset (Qc)) w badanym systemie (pomiędzy warstwąstudni i bariery). Informację tę można otrzymać modelująclinie spektralne oraz wykonując obliczenia struktury pasmowej,tj. energii poszczególnych przejść optycznych w funkcjiprocentowej nieciągłości pasm jako parametru swobodnegoobliczeń. Stosując podobne podejście można wyznaczyć nietylko wielkość nieciągłości pasm na granicy dwóch różnychmateriałów półprzewodnikowych, ale też wiele innych istotnychz punktu widzenia konstruowania przyrządów wielkościjak przerwy energetyczne, czy masy efektywne nośnikóww poszczególnych warstwach struktury.Rys. 3. Górny panel: widmo bezkontaktowego elektroodbicia dlastudni kwantowej GaN 0.025 As 0.705 Sb 0.27 /GaAs (czarna linia) wrazz rezultatem modelowania (szara linia) oraz moduły poszczególnychrezonansów (czarna przerywana linia). Dolny panel: Obliczeniaprzejść optycznych w funkcji procentowej nieciągłości pasm [9]Fig. 3. Top panel: the room temperature CER spectrum of theGaN 0.025 As 0.705 Sb 0.27 /GaAs QW (solid line) together with the fittingcurve (thick line) and the moduli of individual CER resonances(dashes lines).Bottom panel: theoretical calculations performed forvarious QC [9]Takie podejście wielokrotnie stosowano do badania podobnychstruktur (np. pięcioskładnikowych studni kwantowychGaInNAsSb/GaAs) w ramach współpracy z UniwersytetemStanforda (USA) [10]. Między innymi zbadano wpływ koncentracjiatomów antymonu [11] oraz atomów indu [12] naenergie przejść optycznych oraz na nieciągłość pasm w studniachkwantowych Ga(In)NAs(Sb)/GaAs. Ponadto zbadanotakże wpływ zmiennego składu warstw studni oraz wpływ wygrzewaniana lokalizację poziomu Fermiego [13,14] w badanychstudniach kwantowych.Kropki i kreski kwantowe: Intensywne badania strukturz kropkami [15-17], czy kreskami kwantowymi [18-20] prowadzonesą w ramach współpracy z takimi ośrodkami jak Uniwersytetw Wuerzburgu (Niemcy) Laboratoire de Photoniqueet de Nanostructures, CNRS (Francja) oraz Politechnika w Lozannie- EPFL (Szwajcaria). Warto dodać, że duża częśćwspomnianych badań prowadzona była w ramach uczest-Rys. 4. Porównanie widma CER oraz widma PL dla strukturyz kropkami kwantowymi InAsN umieszczonymi w studni kwantowejInGaAsN/GaAs [16]Fig. 4. Comparison of CER spectra and PL spectra for InAsN quantumdots structure embedded in InGaAsN/GaAs quantum well [16]ELEKTRONIKA 5/<strong>2009</strong> 79
- Page 5 and 6:
konstrukcje technologie zastosowani
- Page 9 and 10:
Streszczenia artykułów • Summar
- Page 12 and 13:
Wyznaczanie strat propagacjiw obsza
- Page 14 and 15:
gdzie: R 0 - jest podwójnym wspó
- Page 16 and 17:
Rys. 8. Porównanie obliczeń teore
- Page 18 and 19:
Rys. 1. Schemat strukturalny system
- Page 20 and 21:
- tematyka morska będąca punktem
- Page 22 and 23:
• System dalekosiężnej identyfi
- Page 24:
wdrożenia Planu implementacji stra
- Page 27 and 28:
Rys. 2. Zakresy długości fal w ob
- Page 29 and 30: dycyjne lasery bazują na przejści
- Page 31 and 32: PodsumowanieRys. 6. Podział koszt
- Page 33 and 34: Występowanie zjawiska kaskady elek
- Page 35 and 36: czerwieni (0,785; 0,85 oraz 1,55 µ
- Page 37 and 38: Rys. 10. Zasada działania pierwsze
- Page 39 and 40: Ze względu na większą masę efek
- Page 41 and 42: Konstrukcje przyrządówNajwiększy
- Page 43 and 44: efektywnej nośników, co zmniejsza
- Page 45 and 46: [58] R. Bates, S. A. Lynch, D. J. P
- Page 47 and 48: W ramach projektu zbadano wpływ do
- Page 49 and 50: konania izolacji elektrycznej zasto
- Page 51 and 52: Technologia MOCVD materiałów zawi
- Page 53 and 54: kowo niska ruchliwość wynika z za
- Page 55 and 56: W Europie, prace głównie prowadzo
- Page 57 and 58: a)b)Rys. 7. Zależność koncentrac
- Page 59 and 60: pełni 90. okresów supersieci, w k
- Page 61 and 62: persieci są większe niż w HgCdTe
- Page 63 and 64: [14] Brown G.J.: Type-II InAs/GaInS
- Page 65 and 66: Rys. 2. Przykład heterostruktury f
- Page 67 and 68: a)b)Rys. 7. Spektralne charakteryst
- Page 69 and 70: [4] Piotrowski J.: Hg1-xCdxTe Infra
- Page 71 and 72: w ten sposób było dyskwalifikowan
- Page 73 and 74: Rys. 7. Zależność nierówności
- Page 75 and 76: Metoda funkcji Greena w modelowaniu
- Page 77 and 78: zującej dz = a. Przy ustalonych E
- Page 79: Na rysunku 5b. pokazano gęstość
- Page 83 and 84: Rys. 9. Widma PR (czarne krzywe u d
- Page 85 and 86: [4] Misiewicz J., Sęk G., Kudrawie
- Page 87 and 88: a)Rys. 1. Schemat układu pomiarowe
- Page 89 and 90: Znaczącym krokiem w kierunku wykor
- Page 91 and 92: ie przejść równej 64 wynosi 16 m
- Page 93 and 94: W tabeli 1. zebrano kilka dostępny
- Page 95 and 96: oddali się od wyrzutni na odległo
- Page 97 and 98: spektralnego 0,6...1,1 µm (lasery
- Page 99 and 100: TypProducentPaństwoPole widzenia:w
- Page 101 and 102: Konfiguracja opracowanego systemuPo
- Page 103 and 104: Rys. 8. Wykres fluktuacji amplitudy
- Page 105 and 106: Aktywna antena radiolokacyjna na pa
- Page 107 and 108: W każdym z torów jest włączony:
- Page 109 and 110: ardzo niskiego poziomu listków boc
- Page 111 and 112: Tab. 1. Rodzaje laserów na szkle i
- Page 113 and 114: Fluorescencja jest jednym z rodzaj
- Page 115 and 116: Większa szerokość linii emisyjne
- Page 117 and 118: 0,3...1,6. Im mniejsza jest wartoś
- Page 119: Zjawisko ogniskowania fototermiczne