forschungsprogramm optische technologien - Baden-Württemberg ...

Änderung des Scanwinkels von 50° über 10 nm Wellenlängenänderung
angestrebt. Abb. 2 zeigt Messungen an Mehrschichtstrukturen
mit denen bereits eine definierte Strahlverschiebung
in Abhängigkeit von der Wellenlänge realisiert wurde.
Austrittsposition in µm
200
100
270
240
210
0
0
830 835 840 840 860 880
(a) Wellenlänge in nm (b)
Wellenlänge in nm
Austrittsposition in µm
180
150
120
90
60
30
3.2. Technologie
Die Technologie für die Herstellung der Filter mit einer hohen
Anzahl von Schichten (typischerweise n > 200) mit der notwendigen
Präzision von ca. 1 nm wird in diesem Projekt erarbeitet.
Um eine präzise Herstellung nicht-periodischer Filter zu erreichen,
muss die Schichtdicke während der Deposition in-situ in
Echtzeit bestimmt und damit der Depositionsprozess aktiv
geregelt werden. Basierend auf der vorhandenen Anlage zur
Herstellung dielektrischer Schichten wird ein aktives Monitoring-System
für das Materialsystem SiO2/Ta2O5 implementiert.
Weiterhin muss die Mikrolinse entworfen und mit dem Filter
integriert werden.
3.3. Charakterisierung
Zunächst soll ein Messplatz zur detaillierten Charakterisierung
der Filter bezüglich des Strahlversatzes mit der Wellenlänge
aufgebaut werden. Die Messung soll mit Hilfe eines durchstimmbaren
Lasers erfolgen. Der Strahlversatz wird bestimmt,
indem der Austrittspunkt des Laserstrahls aus dem Dünnfilmfilter
über eine Teleskopoptik auf eine CCD-Kamera abgebildet
wird. Bei Durchstimmen des Lasers kann nun die Strahlverschiebung
mit der Wellenlänge experimentell gemessen werden.
Anschließend werden die Änderungen der Strahlausbreitungsrichtung
mit der Wellenlänge charakterisiert.
Referenzen:
Abb. 2: Experimentell gemessene
Intensität als eine Funktion von
Wellenlänge und Position auf der
CCD-Kamera für 8 Reflektionen
an einer 66-Schicht Struktur.
(a) Lineare Verschiebung und
(b) stufenförmige Verschiebung
(normierte Intensität) [3].
[1] M. Gerken and D. A. B. Miller, "Multilayer Thin-Film Structures
with High Spatial Dispersion," Appl. Opt. 42/7 (2003), 1330-1345.
[2] M. Gerken and D. A. B. Miller, "Wavelength Demultiplexer Using
the Spatial Dispersion of Multilayer Thin-Film Structures,"
Photonics Techn. Lett. 15/8 (2003), 1097-1099.
[3] M. Gerken and D. A. B. Miller, "Multilayer Thin-Film Stacks with
Step-Like Spatial Beam Shifting," J. Lightw. Techn. 22/2 (2004),
612-618.
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