08.01.2015 Views

Тезисы докладов - Институт катализа им. Г.К. Борескова

Тезисы докладов - Институт катализа им. Г.К. Борескова

Тезисы докладов - Институт катализа им. Г.К. Борескова

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

СД-27<br />

СОЗДАНИЕ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ SiGe/Si МИКРО-<br />

И НАНООБОЛОЧЕК<br />

° Юкечева Ю.С. 1 , Голод С.В. 1 , Принц В.Я. 1<br />

Mussler G. 2 , Weber A. 2 , Deckardt E. 2 , Gruetzmacher D. 2<br />

1 Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН,<br />

630090, Новосибирск, пр. Ак. Лаврентьева, 13, yukecheva@isp.nsc.ru<br />

2 Paul-Sherrer Institute, 5232 Villigen, Switzerland<br />

Полупроводниковые оболочки (трубки, кольца, спирали и др.)<br />

являются интересными физическими объектами для практического<br />

применения в микросистемной технике, а также исследования<br />

электронного транспорта на искривленной поверхности. В данной<br />

работе сообщается о SiGe/Si трубках и спиралях, полученных методом<br />

контролируемого изгиба и сворачивания тонких напряженных пленок,<br />

который впервые был предложен в работе [Prinz V.Ya., Seleznev V.A.,<br />

Gutakovsky A.K. and et al. - Physica E, 2000, 6(1-4), pp. 828-831].<br />

1) Созданы модулировано легированные и нелегированные<br />

SiGe/Si трубки и спирали с радиусом изгиба R от 220 нм до 1мкм, в<br />

т.ч. электрически изолированные от подложки. В основе процесса<br />

лежит высокая селективность растворимости окислов германия по<br />

отношению к окислу кремния.<br />

2) Экспериментально продемонстрирована возможность<br />

значительного (до 2 раз) локального уменьшения кривизны в<br />

системах SiGe/Si/SiO 2 , что достигнуто экспонированием диоксида<br />

кремния электронным пучком. Метод позволяет создавать конусы,<br />

периодически модулированные по диаметру трубки-свитки и<br />

другие сложные объекты.<br />

3) Сформированы микро- и нанооболочки на основе сильно<br />

легированные бором p + -SiGe/Si (R от 5 нм до 20 мкм) и гибридных<br />

(SiGe/Si/Cr и SiGe/Si/Si 3 N 4 /Cr) напряженных тонких пленок.<br />

Разработаны методы направленного сворачивания p + -SiGe/Si пленок в<br />

оболочки и их сборки в трехмерные конструкции, имеющие заданные<br />

размеры, форму и расположение на подложке. Методы основаны на<br />

использовании сильной анизотропии травления кристаллографических<br />

граней жертвенной подложки кремния.<br />

°<br />

стипендиат МБНФ им К.И. Замараева<br />

197

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!