ТезиÑÑ Ð´Ð¾ÐºÐ»Ð°Ð´Ð¾Ð² - ÐнÑÑиÑÑÑ ÐºÐ°Ñализа им. Ð.Ð. ÐоÑеÑкова
ТезиÑÑ Ð´Ð¾ÐºÐ»Ð°Ð´Ð¾Ð² - ÐнÑÑиÑÑÑ ÐºÐ°Ñализа им. Ð.Ð. ÐоÑеÑкова
ТезиÑÑ Ð´Ð¾ÐºÐ»Ð°Ð´Ð¾Ð² - ÐнÑÑиÑÑÑ ÐºÐ°Ñализа им. Ð.Ð. ÐоÑеÑкова
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
СД-27<br />
СОЗДАНИЕ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ SiGe/Si МИКРО-<br />
И НАНООБОЛОЧЕК<br />
° Юкечева Ю.С. 1 , Голод С.В. 1 , Принц В.Я. 1<br />
Mussler G. 2 , Weber A. 2 , Deckardt E. 2 , Gruetzmacher D. 2<br />
1 Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН,<br />
630090, Новосибирск, пр. Ак. Лаврентьева, 13, yukecheva@isp.nsc.ru<br />
2 Paul-Sherrer Institute, 5232 Villigen, Switzerland<br />
Полупроводниковые оболочки (трубки, кольца, спирали и др.)<br />
являются интересными физическими объектами для практического<br />
применения в микросистемной технике, а также исследования<br />
электронного транспорта на искривленной поверхности. В данной<br />
работе сообщается о SiGe/Si трубках и спиралях, полученных методом<br />
контролируемого изгиба и сворачивания тонких напряженных пленок,<br />
который впервые был предложен в работе [Prinz V.Ya., Seleznev V.A.,<br />
Gutakovsky A.K. and et al. - Physica E, 2000, 6(1-4), pp. 828-831].<br />
1) Созданы модулировано легированные и нелегированные<br />
SiGe/Si трубки и спирали с радиусом изгиба R от 220 нм до 1мкм, в<br />
т.ч. электрически изолированные от подложки. В основе процесса<br />
лежит высокая селективность растворимости окислов германия по<br />
отношению к окислу кремния.<br />
2) Экспериментально продемонстрирована возможность<br />
значительного (до 2 раз) локального уменьшения кривизны в<br />
системах SiGe/Si/SiO 2 , что достигнуто экспонированием диоксида<br />
кремния электронным пучком. Метод позволяет создавать конусы,<br />
периодически модулированные по диаметру трубки-свитки и<br />
другие сложные объекты.<br />
3) Сформированы микро- и нанооболочки на основе сильно<br />
легированные бором p + -SiGe/Si (R от 5 нм до 20 мкм) и гибридных<br />
(SiGe/Si/Cr и SiGe/Si/Si 3 N 4 /Cr) напряженных тонких пленок.<br />
Разработаны методы направленного сворачивания p + -SiGe/Si пленок в<br />
оболочки и их сборки в трехмерные конструкции, имеющие заданные<br />
размеры, форму и расположение на подложке. Методы основаны на<br />
использовании сильной анизотропии травления кристаллографических<br />
граней жертвенной подложки кремния.<br />
°<br />
стипендиат МБНФ им К.И. Замараева<br />
197