Herstellung
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SIMOX Wafer<br />
� Spezielle Anwendung der Ionen-Implantation (hier mit Sauerstoff):<br />
Nach Implantation von O 2 bildet sich in der Tiefe eine SiO 2 Schicht.<br />
� SIMOX Wafer (Separation by IMplantation of OXigen)<br />
� Die Bauteile an der Oberfläche sind dann vom Bulk getrennt. Schaltungstechnisch vorteilhaft, kleinere<br />
Kapazitäten, kein Latchup... 'Silicon on Insulator' = SOI<br />
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