Herstellung
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� Sehr einfach (Wafer wird in Flüssigkeit getaucht)<br />
� Für sehr feine Strukturen weniger geeignet<br />
� Meist Isotrop, d.h. gleichmäßig in alle Richtungen)<br />
� Mit speziellen Chemikalien (KOH) auch anisotrop<br />
Naßchemisches Ätzen<br />
� Verschiedene Lagen können als Ätzstopp dienen, z.B.<br />
- eine SiO 2 Schicht in der Tiefe (SIMOX)<br />
- eine dotierte (implantierte) Schicht in der Tiefe<br />
Digitale Schaltungstechnik - Technologie<br />
Lack<br />
Silizium<br />
Dotiertes Silizium<br />
� Beispiele:<br />
- Isotropes Ätzen von SiO 2 mit H 2O und H (Flußsäure):<br />
SiO 2 + 6 HF -> H 2SiF 6 + 2 H 2O<br />
- Isotropes Ätzen von Silizium mit HNO 3 + H 2O + HF<br />
(50:20:1):<br />
Si + 2 HNO 3 -> SiO 2 + 2 HNO 2, SiO 2->...<br />
Dotiertes Silizium anisotrop (KOH)<br />
Silizium (Substrat)<br />
isotrop<br />
© P. Fischer, ziti, Uni Heidelberg, Seite 51
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