in-situ röntgendiffraktion zur charakterisierung von mechanischen ...
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6.6 Publications, not <strong>in</strong>cludes <strong>in</strong> this Thesis<br />
6. Publikationen<br />
Im Laufe der wissenschaftlichen Tätigkeit wurde auch an weiteren Studien h<strong>in</strong>sichtlich<br />
thermischer Spannungsentwicklung <strong>in</strong> dünnen Schichten gearbeitet. Von e<strong>in</strong>er genauen<br />
Ausführung dieser Untersuchungen wird <strong>in</strong> dieser Arbeit jedoch abgesehen. Genauere<br />
Informationen zu diesen Arbeiten können aus den entstandenen Publikationen entnommen<br />
werden, welche hier angeführt s<strong>in</strong>d.<br />
(I)<br />
THERMALLY-INDUCED STRESSES IN THIN ALUMINIUM LAYERS GROWN<br />
ON SILICON<br />
E. Eiper, R. Resel, C. Eisenmenger-Sittner, M. Hafok, J. Keckes<br />
Powder Diffraction, 19 (1), (2004)<br />
(II)<br />
EVALUATION OF EXPERIMENTAL STRESS-STRAIN DEPENDENCE IN<br />
THERMALLY CYCLED AL THIN FILMS ON SI(100)<br />
J. Keckes, M. Hafok, E. Eiper; A. Hofer, R. Resel, C. Eisenmenger-Sittner<br />
Powder Diffraction, 19 (4), (2004), p. 367<br />
(III)<br />
MODIFICATION OF WETTING OF COPPER ON CARBON BY PLASMA<br />
TREATMENT AND MOLYBDENIUM INTERLAYERS<br />
C. Eisenmenger-Sittner, C. Schrank, E. Neubauer, E. Eiper, J. Keckes<br />
Applied Surface Science, (2006) <strong>in</strong> press<br />
(IV)<br />
RAPID DETERMINATION OF STRESS FACTORS AND ABSOLUTE RESIDUAL<br />
STRESSES IN THIN FILMS<br />
K.J. Mart<strong>in</strong>schitz, E. Eiper, S. Massl, H. Köstenbauer, R. Daniel, G. Fontalvo, C. Mitterer,<br />
J. Keckes<br />
Journal of Applied Crystallography, (2006) <strong>in</strong> press<br />
Seite 142