in-situ röntgendiffraktion zur charakterisierung von mechanischen ...
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4. Ergebnisse und Diskussion<br />
2θ=95°. Abbildung 4.12 stellt e<strong>in</strong> Beispiel der Abhängigkeit der Streu<strong>in</strong>tensität zu 2θ für<br />
e<strong>in</strong>e 2.4µm dicke Cu Schicht auf e<strong>in</strong>em 140µm dicken Substrat dar. Zur Vermeidung des<br />
Si(400) E<strong>in</strong>kristallreflexes bei 2θ=69.131° wurde die Messung bei e<strong>in</strong>em<br />
Verkippungsw<strong>in</strong>kel <strong>von</strong> ψ=1.5° durchgeführt.<br />
norm. Intensität<br />
1.0<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
Cu (111)<br />
2.4µm Cu / 140µm Si(100)<br />
Cu (200)<br />
0.0<br />
40 50 60 70 80 90<br />
2θ (°)<br />
Abbildung 4.12: θ−2θ Messung e<strong>in</strong>er 2.4µm Cu-Schicht auf e<strong>in</strong>em 140µm dicken<br />
Si(100) Substrat. Die Messung zeigt, dass bei e<strong>in</strong>em Verkippungsw<strong>in</strong>kel <strong>von</strong> ψ=1.5°<br />
alle Cu-Netzebenenreflexe im Messbereich zwischen 2θ=40° und 2θ=95° messbar<br />
s<strong>in</strong>d. Damit erfolgte die Annahme der Isotropie der Schichten.<br />
Es zeigt sich, dass bei e<strong>in</strong>em Verkippungsw<strong>in</strong>kel <strong>von</strong> ψ=1.5° alle Cu(hkl) Peakprofile im<br />
Streubild zu sehen s<strong>in</strong>d. Die normierten Intensitäten stimmen zwar nicht exakt mit den<br />
Literaturwerten für vollständig isotrope Schichten [119] übere<strong>in</strong> (Cu(220) und Cu(311) s<strong>in</strong>d<br />
stärker als Cu(111) und Cu(200)), jedoch wurde entschieden, dass bei Annahme regelloser<br />
Kristallverteilung ke<strong>in</strong>e gravierenden Fehler <strong>in</strong> Kauf genommen werden müssen. Darum<br />
wurden die Cu-Schichten <strong>in</strong> dieser Studie als isotrope Schichten ohne Vorzugsorientierungen<br />
angesehen. Die Annahme der Isotropie der Schichten bestätigt sich durch die Tatsache, dass<br />
der <strong>zur</strong> Dehnungsmessung herangezogene (311)-Gitterreflex bei jedem e<strong>in</strong>gestellten<br />
Verkippungsw<strong>in</strong>kel messbar ist (vgl. Abbildung 4.13).<br />
Bei der Messung der s<strong>in</strong> 2 ψ-Abhängigkeiten der e<strong>in</strong>zelnen Proben wurde wie <strong>in</strong> Kapitel 4.2.1<br />
vorgegangen. Abbildung 4.13 zeigt den erhaltenen Zusammenhang zwischen s<strong>in</strong> 2 ψ und den,<br />
durch die Messungen erhaltenen Gitterparametern a für die Messreihe der Cu-Schichten. Die<br />
Berechnung des Gitterparameters a erfolgte analog <strong>zur</strong> Al-Messserie aus den experimentell<br />
bestimmten Netzebenenabständen d 311 mittels Gleichung (2.12) und dem Zusammenhang<br />
zwischen Gitterparameter a und dem mit hkl <strong>in</strong>dizierten Netzebenenabstand d hkl (Anhang,<br />
Kapitel 7.1.1, kubisches System).<br />
Cu (220)<br />
Cu (311)<br />
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