in-situ röntgendiffraktion zur charakterisierung von mechanischen ...
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4. Ergebnisse und Diskussion<br />
Die Tatsache, dass als <strong>in</strong>tr<strong>in</strong>sische Spannungen Druckspannungen auftreten ist im Vergleich<br />
zu früheren Studien überraschend. C-Achsen orientierte GaN Schichten zeigten <strong>in</strong>tr<strong>in</strong>sische<br />
Zugspannungen [111 ,112]. E<strong>in</strong>e mögliche Erklärung zum Auftreten <strong>von</strong> <strong>in</strong>tr<strong>in</strong>sischen<br />
Druckspannungen dieser Größenordnung ist, dass die Schichtdicke der GaN Schicht mit<br />
130nm zu kle<strong>in</strong> ist, um die Misfit-Spannungen zwischen Substrat und Film abzubauen.<br />
Diese Annahme stützt sich auf TEM Untersuchungen e<strong>in</strong>er 175nm dicken GaN Schicht <strong>in</strong><br />
der Arbeit <strong>von</strong> Gerlach et al. [113], aus welcher die Abbildung 4.6 entnommen wurde.<br />
Abbildung 4.6: TEM Hellfeld Aufnahme des Querschnitts e<strong>in</strong>er 175nm dicken GaN<br />
Schicht auf LiAlO2 entlang der GaN[0001] Orientierung. Die durch die<br />
durchgezogenen Pfeile hervorgehobenen dunklen Schatten wurden <strong>in</strong> der Arbeit<br />
<strong>von</strong> Gerlach et al. [113] als Dehnungskontraste spannungs<strong>in</strong>duzierter<br />
Probenkrümmung identifiziert.<br />
Die genaue Herkunft der beobachteten anisotropen, <strong>in</strong>tr<strong>in</strong>sischen Spannungen ist aber noch<br />
nicht vollständig geklärt. Darum ist es unerlässlich, <strong>in</strong> zukünftigen Studien die Herkunft<br />
dieser Spannungen zu untersuchen.<br />
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