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Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...

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6 Experimentelle <strong>Untersuchungen</strong> verschiedener Nanoimprint- Verfahren<br />

Herstellung eines Filterfeldes für den Demonstrator verwendet werden konnten. Positiv <strong>zu</strong><br />

bewerten sind die Verbesserungen, die hinsichtlich der Lufteinschlüsse erzielt wurden.<br />

Durch das Aufbringen des Polymers direkt auf den Stempel füllten sich die Hohlräume und<br />

es gelang, Defekte durch Lufteinschlüsse deutlich <strong>zu</strong> verringern. Dies geschah aber auf<br />

Kosten der Polymerschichtdicke, die <strong>zu</strong>nahm, und der Vollständigkeit, die durch Abrisse<br />

und durch das Kleben von Polymerresten am Stempel kleiner wurde. Die Homogenität lässt<br />

sich bei unvollständigen Prägungen mit vielen Defekten nur schwer bestimmen. Sie wird<br />

hier mit „mittel bis schlecht“ bewertet.<br />

Trotz all der in diesem Abschnitt beschriebenen Bemühungen gelang es nicht, vollständige<br />

Prägungen <strong>zu</strong> generieren, die für die Herstellung eines <strong>Fabry</strong>-<strong>Pérot</strong>-Filterfeldes ausreichend<br />

wären.<br />

6.3 UV-Prägen (UV imprint) bei SÜSS MicroTec in Garching<br />

Die in Abschnitt 6.1 und 6.2 dargestellten Versuche erbrachten keine ausreichende Qualität<br />

der Prägungen, um zeigen <strong>zu</strong> können, dass es möglich ist, damit ein <strong>Fabry</strong>-<strong>Pérot</strong>-Filter-<br />

basiertes Nanospektrometer <strong>zu</strong> fertigen. Somit folgt der Schritt weg von umgebauten nicht<br />

professionellen Anlagen hin <strong>zu</strong> kommerziell erhältlichen Anlagen. In einer Kooperation mit<br />

der Firma SÜSS MicroTec aus Garching entstanden Prägungen, die letzten Endes aufgrund<br />

ihrer Qualität für die Applikation in Nanospektrometern verwendet werden konnten. Im<br />

folgenden Abschnitt werden die verwendeten Methoden und Prozesse erläutert, vom<br />

grundsätzlichen Prozess des Nanoimprints mittels MA6 über die nötigen Modifikationen für<br />

die vom INA verwendeten Stempel bis hin <strong>zu</strong> Stempelentwicklungen, mit denen der Prozess<br />

optimiert werden soll. Zum Schluss dieses Abschnittes werden die erzielten Ergebnisse<br />

vorgestellt.<br />

Abbildung 59: MA6 − optimiert für UV-NIL [159].<br />

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