Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...
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6 Experimentelle <strong>Untersuchungen</strong> verschiedener Nanoimprint- Verfahren<br />
Herstellung eines Filterfeldes für den Demonstrator verwendet werden konnten. Positiv <strong>zu</strong><br />
bewerten sind die Verbesserungen, die hinsichtlich der Lufteinschlüsse erzielt wurden.<br />
Durch das Aufbringen des Polymers direkt auf den Stempel füllten sich die Hohlräume und<br />
es gelang, Defekte durch Lufteinschlüsse deutlich <strong>zu</strong> verringern. Dies geschah aber auf<br />
Kosten der Polymerschichtdicke, die <strong>zu</strong>nahm, und der Vollständigkeit, die durch Abrisse<br />
und durch das Kleben von Polymerresten am Stempel kleiner wurde. Die Homogenität lässt<br />
sich bei unvollständigen Prägungen mit vielen Defekten nur schwer bestimmen. Sie wird<br />
hier mit „mittel bis schlecht“ bewertet.<br />
Trotz all der in diesem Abschnitt beschriebenen Bemühungen gelang es nicht, vollständige<br />
Prägungen <strong>zu</strong> generieren, die für die Herstellung eines <strong>Fabry</strong>-<strong>Pérot</strong>-Filterfeldes ausreichend<br />
wären.<br />
6.3 UV-Prägen (UV imprint) bei SÜSS MicroTec in Garching<br />
Die in Abschnitt 6.1 und 6.2 dargestellten Versuche erbrachten keine ausreichende Qualität<br />
der Prägungen, um zeigen <strong>zu</strong> können, dass es möglich ist, damit ein <strong>Fabry</strong>-<strong>Pérot</strong>-Filter-<br />
basiertes Nanospektrometer <strong>zu</strong> fertigen. Somit folgt der Schritt weg von umgebauten nicht<br />
professionellen Anlagen hin <strong>zu</strong> kommerziell erhältlichen Anlagen. In einer Kooperation mit<br />
der Firma SÜSS MicroTec aus Garching entstanden Prägungen, die letzten Endes aufgrund<br />
ihrer Qualität für die Applikation in Nanospektrometern verwendet werden konnten. Im<br />
folgenden Abschnitt werden die verwendeten Methoden und Prozesse erläutert, vom<br />
grundsätzlichen Prozess des Nanoimprints mittels MA6 über die nötigen Modifikationen für<br />
die vom INA verwendeten Stempel bis hin <strong>zu</strong> Stempelentwicklungen, mit denen der Prozess<br />
optimiert werden soll. Zum Schluss dieses Abschnittes werden die erzielten Ergebnisse<br />
vorgestellt.<br />
Abbildung 59: MA6 − optimiert für UV-NIL [159].<br />
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