Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...
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6 Experimentelle <strong>Untersuchungen</strong> verschiedener Nanoimprint- Verfahren<br />
Abbildung 61: 3D CAD Zeichnung des Chuckes und des Stempelhalters. Der Chuck ist mit einem Wafer beladen und<br />
befindet sich in Ausgangsstellung für eine Prägung.<br />
Im zweiten Schritt wird der Probenhalter nach oben verfahren. Diese Bewegung stoppt<br />
etwa 100 bevor das mit Polymer beschichtete Substrat den Stempel berührt (Abbildung<br />
62). In dieser Position erfolgt die Justierung des Substrats <strong>zu</strong>m Stempel. Es wird <strong>zu</strong>m einen<br />
ein Keilfehlerausgleich durchgeführt, welcher dafür sorgt, dass Substrat und Stempel<br />
parallel <strong>zu</strong>einander sind, und <strong>zu</strong>m anderen wird das Substrat hinsichtlich seiner <strong>zu</strong><br />
prägenden Strukturen <strong>zu</strong>m Stempel hin ausgerichtet. Der Keilfehlerausgleich erfolgt, indem<br />
drei dünne Metallstreifen, an deren Ende drei kleine Metallkugeln befestigt sind, zwischen<br />
Substrat und Stempel bewegt werden. Der Probenhalter wird dann mit einem definierten<br />
Druck gegen die Kugeln, die am Stempel anliegen, gefahren. Durch die Verwendung der drei<br />
in einem Dreieck angeordneten Kugeln richtet sich nun der federnd gelagerte Probenhalter<br />
samt Substrat parallel <strong>zu</strong> dem Stempel aus. Diese Positionierung des Probenhalters wird im<br />
Folgenden mit einer Feststellbremse an jedem Zylinder fixiert. Erreicht der Probenhalter<br />
nach dem Durchführen des Keilfehlerausgleiches wieder die Grundposition von etwa<br />
100 zwischen Substrat und Stempel, folgt die laterale Ausrichtung des Substrates <strong>zu</strong>m<br />
Stempel. Dies erfolgt über die Lithografieausrüstung des MA6, das Mikroskop und<br />
Mikrometerjustierschrauben. Für die in dieser Arbeit angestrebten Prägungen war nur eine<br />
grobe Justage vonnöten, da es sich um eine Einzelprägung handelt, die <strong>zu</strong> keiner anderen<br />
Struktur hin ausgerichtet werden musste. Aus diesem Grund wird auf ein genaueres<br />
Eingehen auf die vielfältigen Justiermöglichkeiten des MA6 hier verzichtet. Ist das Substrat<br />
ausreichend <strong>zu</strong>m Stempel hin ausgerichtet, ist die Anlage bereit für den dritten, den<br />
eigentlichen Prägeschritt [159].<br />
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