Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...

6 Experimentelle Untersuchungen verschiedener Nanoimprint- Verfahren
quadratischen Membran aus weichem Material mit den Abmessungen 6 x 6 x
0,1 lösen. Bei dem hierfür verwendeten Material handelt es sich um eine dünne
Plastikfolie, die zur besseren Druckverteilung zwischen dem Vakuum-Adapter und der
Probe platziert wurde, wie es in Abbildung 39 veranschaulicht ist. Die Membran wird mittig
auf den Vakuum-Adapter gelegt, wodurch ein Vakuumanschluss in der Mitte verschlossen
bleibt und das Ansaugen der Probe an vier äußeren Vakuumanschlüssen erfolgt. Auf diese
Weise soll ein Durchbiegen der Probe verhindert werden.
Abbildung 39: Vakuum-Adapter mit der Membran in der Mitte.
Das Durchbiegen konnte durch die Membran verhindert werden, sodass gerade im
mittleren Bereich des Substrates, in dem sich die wichtigen Strukturen befinden, bessere
Prägungen realisiert wurden.
Erzeugung eines Vakuums zwischen Stempel und Substrat
Um Lufteinschlüsse in den Prägungen zu vermeiden, muss während des Prägens zwischen
Stempel und Substrat ein Vakuum herrschen. Diese Anforderung sollte im Vakuumkontaktmodus
der Anlage umgesetzt werden, da es nur in diesem Modus möglich ist, ein Vakuum
zwischen Stempel und Substrat zu erzeugen.
Im Lithografiebetrieb befindet sich normalerweise zwischen der Maske und dem
Substrathalter (Chuck) nur ein Wafer, der 500 μm dünn ist. Bei der Nanoimprint-Lithografie
sind es sowohl das Substrat als auch der Stempel, infolgedessen kann von der Maschine
selbst keine Vakuumkammer zwischen dem Vakuum-Adapter und dem Chuck gebildet
werden, da die Dichtlippe, die sich automatisch aufpumpt, nicht groß genug ist, um diese
Höhe zu überwinden. Die wenigen Millimeter, die noch fehlen, um den unteren Chuck mit
dem oberen Vakuum-Adapter in Kontakt zu bringen, sollen mithilfe eines Gummiringes
überwunden werden (Abbildung 40).
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