special - Carl Zeiss

Nanostrukturierung mit der 3D-Deposition
Bild 1:
Elektronenstrahl-Maskenreparaturgerät
MeRit TM MG.
Bild 2:
Schema der Nanostrukturierungstechnologie
EBID.
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Die Strukturierung von Materialien
in Bereichen von bis zu einem
millionstel Millimeter (Nanometer)
wird entscheidend sein bei der
Entwicklung von Technologien des
21. Jahrhunderts. Um die Leistungsfähigkeit
elektronischer Bauelemente
zu steigern, werden immer
niedrigere Strukturgrößen benötigt.
Eines der wesentlichsten
Probleme der Nanotechnologie ist
die Massenproduktion. Nanostrukturierung
mittels lithographischer
Techniken ist notwendig, um großflächige
und kostengünstige Herstellung
von Nanostrukturen zu
realisieren. In der Folge entstanden
Eichstrukturen für Rasterkraftmikroskope
mit Objektabständen
unter 100 nm und EBID-Abtastspitzen
mit 500 nm Höhe und 7 nm
Krümmungsradius an der Spitze.
Eine speziell entwickelte Software
zur Elektronenstrahl-Führung
innerhalb des Bildverarbeitungssystems
VIDAS in der Forschungsgruppe
um H.W.P. Koops
wies die Besonderheit auf, dass
die Belichtungszeit für jedes Pixel
individuell einstellbar war, wie es
die 3D-EBID Technologie erfordert.
Mit der Technik 3D-Depositionslithographie
führte man dann
erstmals das „Rapid Prototyping“
von elektrischen und optischen
Elementen mit Sub-Mikrometer-
Abmessungen durch.
Innovation 16, Carl Zeiss AG, 2005