special - Carl Zeiss
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Bild 3:<br />
Benutzeroberfläche mit<br />
Musterkopierfunktion.<br />
Bild 4:<br />
Musterkopierfunktion:<br />
Ermittlung der zu reparierenden<br />
Strukturgeometrie,<br />
Vergleichsmuster, Maskendefekt,<br />
Reparaturresultat.<br />
Bild 5/6:<br />
Photomaske – vorbereitet<br />
für Analyse und Reparatur.<br />
Bild 7:<br />
Bedienkonsole MeRit TM<br />
MG.<br />
48<br />
7<br />
3<br />
Die Photomaskenreparatur<br />
Die Entwicklungsvorleistungen im Rahmen<br />
der EBID-Technologie zur rechnergesteuerten<br />
Gasdosierung für organometallische<br />
und anorganische<br />
Gase, sowie sublimierbare Substanzen,<br />
welche die Materialzufuhr durch<br />
Kanülen auf die Substratoberfläche<br />
im Rasterelektronenmikroskop erlaubt,<br />
führte aus der Vielzahl der möglichen<br />
Anwendung der Elektronenstrahl<br />
induzierten Reaktionen zum<br />
tragfähigen und von der Industrie benötigten<br />
Technologie der Photomaskenreparatur,<br />
einer Anwendung bei<br />
der wenige Strukturen hochgenau<br />
bearbeitet werden müssen.<br />
Innovation 16, <strong>Carl</strong> <strong>Zeiss</strong> AG, 2005
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