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View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

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92 8 Ergebnisse und Diskussion<br />

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- § 10 4 B (11)<br />

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- Sputterzeit (min)<br />

Abb. 8.29: SIMS-Profil einer 466 nm dicken laserkristallisierten Schicht auf Corning-Glas<br />

(A=1064 nm, E=400 mJ). Neben den Elementen bzw. Verbindungen sind die<br />

jeweiligen Massenzahlen angegeben.<br />

Die verschiedenen Zählraten können nicht auf der Skala miteinander verglichen werden. Die<br />

Empfindlichkeitsfaktoren der einzelnen Elemente müssen berücksichtigt werden, um deren<br />

absolute Konzentration in der laserkristallisierten Schicht bestimmen zu können. An der<br />

Substratgrenzfläche zeigt sich eine starke Verunreinigung der Schicht vor allem durch Bor<br />

und Aluminium. Auch Barium ist deutlich nachweisbar, während die gemessene<br />

Arsenkonzentration dem Signaluntergrund entspricht. Der Empfindlichkeitsfaktor von Bor<br />

wurde durch die Messung von Standardproben bestimmt. Aus dem Verhältnis der Intensität<br />

des Bor-Signals zum Matrixsignal kann der Borgehalt in der Schicht bestimmt werden. Die<br />

höchste Borkonzentration nahe an der Substratgrenzfläche liegt bei 1-2 %. Für die<br />

Konzentrationen von Aluminium und Barium an der Grenzfläche zum Substrat wurden grobe<br />

Abschätzungen anhand von Literaturdaten der Empfindlichkeitsfaktoren [86] vorgenommen.<br />

Sie beträgt für Aluminium etwa 0.2-0.3 % und für Barium 20-50 ppm. Allerdings ist auf<br />

Grund der Schichtrauhigkeit eine Überschätzung der Verunreinigungen an der<br />

Substratgrenzfläche möglich (vgl. Kap. 8.1.2.3d). Die Konzentration dieser Elemente nimmt<br />

mit zunehmender Entfernung von der Substratgrenzfläche ab. Besonders hoch bleibt die<br />

Konzentration der Verunreinigungen bis zu einer Distanz zum Substrat von ca. 100 nm. Auch

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