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View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

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8 Ergebnisse und Diskussion 105<br />

Die Wärmeleitfähigkeit von amorphem Silizium beträgt (bei Raumtemperatur) zwischen<br />

0.026 und 0.3 W / (cm· K) [94,95], während diejenige von kristallinern Silizium bei<br />

1.5 W / (cm· K) liegt. Die Wärme verteilt sich in einer wachsenden Umgebung um den<br />

Laserspot, so daß die Temperatur im bestrahlten Bereich der Schicht fällt.<br />

Die Abweichung des Kristallisierungsindex von dem oben beschriebenen systematischen<br />

Verlauf nimmt bei hohen Laserleistungsdichten zu, da sich hier die Raman-Linie der<br />

TO-Mode der kristallinen Phase zu sehr niedrigen Wellenzahlen verschiebt (vgl. Abb. 8.36).<br />

Dabei schiebt sich eine Flanke der in diesem Leistungsregime bereits das Spektrum<br />

dominierenden Linie aus dem als kristallinen Bereich "c" definierten Intervall von 495 bis<br />

510 cm- I . Dies führt zu einer Verkleinerung des Kristallisierungsindex, obwohl der kristalline<br />

Anteil der Schicht weiter wächst. Abb.8.36 zeigt z. B., daß sich die Linie der kristallinen<br />

Phase zu dem Zeitpunkt, an dem die Laserleistungsdichte auf 450 bzw. 500 cm- I erhöht<br />

wurde, zu besonders niedrigen Wellenzahlen verschoben hat. Genau in diesen Punkten zeigt<br />

sich auch ein Absinken des Kristallisierungsindex in Abb. 8.34. Eine Vergrößerung des als<br />

kristalliner Bereich der Raman-Spektren definierten Intervalls "c" würde jedoch den<br />

systematischen Verlauf bei niedrigen Leistungsdichten weniger deutlich herausstellen. Eine<br />

Verschiebung des Intervalls zu niedrigeren Wellenzahlen dagegen würde einen ähnlichen<br />

systematischen Fehler bei niedrigen Laserleistungsdichten hervorrufen wie die jetzige<br />

Definition bei hohen, denn im Bereich kleiner Laserleistungen sind die Linienmitten bei<br />

höheren Wellenzahlen zu beobachten.<br />

Die Linienbreite der TO-Mode der kristallinen Phase nimmt mit der Bestrahlungszeit bzw. der<br />

Laserleistung insgesamt zu (vgl. Abb. 8.35). Die Unsicherheit bei der Bestimmung der<br />

Linienbreiten lag am Anfang der Bestrahlung höher als am Ende. Die Statistik der innerhalb<br />

von nur 10 s aufgenommenen Spektren ist relativ schlecht. Da der Ar-Ionen-Laser gleichzeitig<br />

zur Kristallisierung und zur Spektroskopie verwendet wurde, hängt die Statistik der Spektren<br />

auch von der Laserleistung ab. Bei höherer Leistung werden mehr Photonen detektiert, und<br />

die Raman-Spektren sind weniger verrauscht. Außerdem ist die Linie des kristallinen<br />

Materials zu Beginn der Bestrahlung ohnehin weniger ausgeprägt. Eine weitere Unsicherheit<br />

stellt der Abzug des Anteils der amorphen Phase im Spektrum dar, der notwendig ist, um die<br />

Linie des kristallinen Siliziums auswerten zu können. Mit abnehmendem amorphem Anteil<br />

(vgl. Abb. 8.34) wirkt sich dessen Abzug weniger kritisch aus.<br />

Die hier gemessenen Linienbreiten werden sowohl durch die Schichttemperatur als auch durch<br />

die Korngrößen bestimmt. Da die Schicht an Luft kristallisiert wurde, besteht ferner die<br />

Möglichkeit einer mit wachsender Temperatur fortschreitenden Oxidation des Materials,<br />

welche sich ebenfalls auf die Linienbreite auswirken kann. Der beobachtete Effekt der<br />

Linienverbreiterung ist u. a. auf die steigende Probentemperatur zurückzuführen. Bei

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