View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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8 Ergebnisse und Diskussion 105<br />
Die Wärmeleitfähigkeit von amorphem Silizium beträgt (bei Raumtemperatur) zwischen<br />
0.026 und 0.3 W / (cm· K) [94,95], während diejenige von kristallinern Silizium bei<br />
1.5 W / (cm· K) liegt. Die Wärme verteilt sich in einer wachsenden Umgebung um den<br />
Laserspot, so daß die Temperatur im bestrahlten Bereich der Schicht fällt.<br />
Die Abweichung des Kristallisierungsindex von dem oben beschriebenen systematischen<br />
Verlauf nimmt bei hohen Laserleistungsdichten zu, da sich hier die Raman-Linie der<br />
TO-Mode der kristallinen Phase zu sehr niedrigen Wellenzahlen verschiebt (vgl. Abb. 8.36).<br />
Dabei schiebt sich eine Flanke der in diesem Leistungsregime bereits das Spektrum<br />
dominierenden Linie aus dem als kristallinen Bereich "c" definierten Intervall von 495 bis<br />
510 cm- I . Dies führt zu einer Verkleinerung des Kristallisierungsindex, obwohl der kristalline<br />
Anteil der Schicht weiter wächst. Abb.8.36 zeigt z. B., daß sich die Linie der kristallinen<br />
Phase zu dem Zeitpunkt, an dem die Laserleistungsdichte auf 450 bzw. 500 cm- I erhöht<br />
wurde, zu besonders niedrigen Wellenzahlen verschoben hat. Genau in diesen Punkten zeigt<br />
sich auch ein Absinken des Kristallisierungsindex in Abb. 8.34. Eine Vergrößerung des als<br />
kristalliner Bereich der Raman-Spektren definierten Intervalls "c" würde jedoch den<br />
systematischen Verlauf bei niedrigen Leistungsdichten weniger deutlich herausstellen. Eine<br />
Verschiebung des Intervalls zu niedrigeren Wellenzahlen dagegen würde einen ähnlichen<br />
systematischen Fehler bei niedrigen Laserleistungsdichten hervorrufen wie die jetzige<br />
Definition bei hohen, denn im Bereich kleiner Laserleistungen sind die Linienmitten bei<br />
höheren Wellenzahlen zu beobachten.<br />
Die Linienbreite der TO-Mode der kristallinen Phase nimmt mit der Bestrahlungszeit bzw. der<br />
Laserleistung insgesamt zu (vgl. Abb. 8.35). Die Unsicherheit bei der Bestimmung der<br />
Linienbreiten lag am Anfang der Bestrahlung höher als am Ende. Die Statistik der innerhalb<br />
von nur 10 s aufgenommenen Spektren ist relativ schlecht. Da der Ar-Ionen-Laser gleichzeitig<br />
zur Kristallisierung und zur Spektroskopie verwendet wurde, hängt die Statistik der Spektren<br />
auch von der Laserleistung ab. Bei höherer Leistung werden mehr Photonen detektiert, und<br />
die Raman-Spektren sind weniger verrauscht. Außerdem ist die Linie des kristallinen<br />
Materials zu Beginn der Bestrahlung ohnehin weniger ausgeprägt. Eine weitere Unsicherheit<br />
stellt der Abzug des Anteils der amorphen Phase im Spektrum dar, der notwendig ist, um die<br />
Linie des kristallinen Siliziums auswerten zu können. Mit abnehmendem amorphem Anteil<br />
(vgl. Abb. 8.34) wirkt sich dessen Abzug weniger kritisch aus.<br />
Die hier gemessenen Linienbreiten werden sowohl durch die Schichttemperatur als auch durch<br />
die Korngrößen bestimmt. Da die Schicht an Luft kristallisiert wurde, besteht ferner die<br />
Möglichkeit einer mit wachsender Temperatur fortschreitenden Oxidation des Materials,<br />
welche sich ebenfalls auf die Linienbreite auswirken kann. Der beobachtete Effekt der<br />
Linienverbreiterung ist u. a. auf die steigende Probentemperatur zurückzuführen. Bei