View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

54 8 und Diskussion
Drei bis vier vergrößerte in amorpher Matrix eingebettete Löcher in der Schicht mit 7-8 %
Wasserstoff gehalt sind in der SEM-Aufnahme, Abb. 8.3, zu erkennen. Die Größe der Löcher
liegt mit 600-700 nm im Bereich der Schichtdicke. Im Vordergrund ist die Bruchkante der
Schicht, darunter die des Corning-Glas-Substrats zu erkennen. Die Löcher reichen bis auf das
Glassubstrat, das im Bereich der Ablation unbeschädigt geblieben ist.
Abb.8.3:
Löcher in amorpher Matrix der Schicht mit 7-8 % Wasserstoffgehalt aus
Abb. 8.1b und 8.2b.
8.1.1d Diskussion
Mit Hilfe der durch Streuscheibe verursachten Interferenzmuster, läßt sich der Einfluß
eines großen Energiebereichs an einer einzigen Probe untersuchen. Die Schicht mit einem
Wasserstoffgehalt von unter 1 % in Abb. 8.1a besteht nach der Bestrahlung aus amorphem
und mikrokristallinern Silizium ohne Löcher. Die
mit der die Probe bestrahlt
wurde, reicht von Werten unterhalb bis oberhalb der Kristallisationsschwelle. Die
Ablationsschwelle wurde nicht überschritten. Im Gegensatz dazu die aus,
um die wasserstoffreichere Schicht in Abb. 8.1 b an mehreren Stellen zu abladieren. Die
AblationsschweUe der Schicht in Abb.8.1a wurde folglich durch
Austemperung des Wasserstoffs heraufgesetzt. Um die Schichten überhaupt kristallisieren zu
können. ist eine Reduzierung des Wasserstoff anteils z. B. durch Tempern notwendig. Ein