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View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

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Danksagung 149<br />

Danksagung<br />

Bei Herrn Prof. H. Wagner und Herrn Prof. H. Lüth möchte ich mich für die Möglichkeit<br />

bedanken, meine Arbeit am Institut für Schicht- und Ionentechnik, Abteilung Photovoltaik<br />

durchführen zu können. Die hervorragende personelle und materielle Infrastruktur dieses<br />

Instituts hat entscheidend zum Gelingen meiner Arbeit beigetragen.<br />

Mein besonderer Dank gilt meinem Betreuer, Herrn Dr. R. Carius, der durch sein fundiertes<br />

Fachwissen und seinen Überblick über viele Bereiche der Physik immer Antworten auf meine<br />

Fragen wußte und viele Ideen und Konzepte beisteuerte.<br />

Bei Herrn Dip!. Ing. J. Klomfaß bedanke ich mich für seine Hilfe beim Aufbau der Anlage zur<br />

Laserkristallisierung. Vor allem in den Bereichen Steuer- und Regelungstechnik konnte ich<br />

auf seine langjährigen Erfahrungen zurückgreifen. Herr Dipl. Ing. J. Klomfaß war auch für die<br />

PDS-Messungen verantwortlich.<br />

Ich möchte mich auch sehr herzlich bei unserer Diplomandin, Frau Dip!. Ing. A. Klatt,<br />

bedanken, die bei der Programmierung der Lasersteuerung mit vielen Unzulänglichkeiten der<br />

Steuerelektronik des Laserboards zu kämpfen hatte. Sie war am Gelingen der strukturierten<br />

Laserkristallisierung wesentlich beteiligt.<br />

Herr Dipl.-Phys. L. Houben fertigte alle TEM-Aufnahmen und XRD-Messungen für diese<br />

Arbeit an. Seinem experimentellen Geschick und seinem tiefen Verständnis der Elektronenmikroskopie<br />

verdanke ich die Vielzahl der Aufnahmen und deren Interpretationen.<br />

Bedanken möchte ich mich auch bei Herrn Dip!.-Phys. L. Kappius, in dessen Anlage die<br />

CoSh-Schichten hergestellt wurden, für die sehr gute Zusammenarbeit und den Aufwand, den<br />

die Schichtherstellung auf den für ihn teilweise exotischen Substraten verursacht hat.<br />

In diesem Zusammenhang gilt mein besonderer Dank auch Herrn Dr. P. Hapke, der sehr<br />

großes Interesse an dem Silizidprojekt zeigte und die PECVD-Depositionen auf diesen und<br />

anderen Substraten in der Sechskammeranlage übernahm.<br />

Der Konstruktion und der Werkstatt des ISI, namentlich Herrn Dip!. Ing. W. Klein, Herrn<br />

H. J Schäffer, und Herrn H.M. Schwan danke ich für die hervorragende Zusammenarbeit bei<br />

Entwurf und Fertigung von wichtigen Bauteilen meiner Apparaturen.

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