View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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8 Ergebnisse und Diskussion 57<br />
30<br />
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c:<br />
W<br />
IlC-Si (PECVD)<br />
FWHM=1 0.2 cm- 1<br />
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CI)<br />
Q)<br />
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10<br />
IlC-Si (laserkrist.)<br />
FWHM=4.6 cm- 1<br />
;;)<br />
c-Si<br />
o~-----------------------<br />
FWHM=3.5 cm- 1<br />
400 450 500 550<br />
Abb.8.4:<br />
Raman-Spektren von f.lc-Si:H (PECVD-gewachsen), einer laserkristallisierten<br />
Schicht (A=1064 nm, 200 Pulse, 20 Hz, 195 mJ/(Puls ·cm 2 ), d=415 nm) und<br />
einkristallinem Silizium.<br />
Die Abhängigkeit der strukturellen Eigenschaften von der Energie bei 1064 nm<br />
Anregungswellenlänge wurde an zwei Serien von Proben mit einer Dicke von 415 bzw.<br />
466 nm untersucht. Abb. 8.6 zeigt die Linienbreite der TO-Mode für diese zwei Serien in<br />
Abhängigkeit von der Laserenergie. Die angegebenen Energien beziehen sich jeweils auf<br />
einen Puls und eine Fläche von einem Quadratzentimeter. Die Balken an den Meßwerten der<br />
415 nm-Serie zeigen die Variation der Linienbreite an fünf verschiedenen Stellen der jeweils<br />
etwa 2 cm 2 großen Proben um den aufgetragenen Mittelwert. Die Proben der 466 nm-Serie<br />
besaßen eine kleinere Fläche, so daß nur eine Messung sinnvoll erschien. Der Meßfehler kann<br />
zu etwa 0.1 cm- l abgeschätzt werden. Eine schmale Linienbreite weist auf große Körner und<br />
eine hohe Kristallqualität hin.