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View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

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8 Ergebnisse und Diskussion 57<br />

30<br />

--<br />

..c 20<br />

c:<br />

W<br />

IlC-Si (PECVD)<br />

FWHM=1 0.2 cm- 1<br />

~<br />

.~<br />

-:a3<br />

:!:<br />

CI)<br />

Q)<br />

-c:<br />

10<br />

IlC-Si (laserkrist.)<br />

FWHM=4.6 cm- 1<br />

;;)<br />

c-Si<br />

o~-----------------------<br />

FWHM=3.5 cm- 1<br />

400 450 500 550<br />

Abb.8.4:<br />

Raman-Spektren von f.lc-Si:H (PECVD-gewachsen), einer laserkristallisierten<br />

Schicht (A=1064 nm, 200 Pulse, 20 Hz, 195 mJ/(Puls ·cm 2 ), d=415 nm) und<br />

einkristallinem Silizium.<br />

Die Abhängigkeit der strukturellen Eigenschaften von der Energie bei 1064 nm<br />

Anregungswellenlänge wurde an zwei Serien von Proben mit einer Dicke von 415 bzw.<br />

466 nm untersucht. Abb. 8.6 zeigt die Linienbreite der TO-Mode für diese zwei Serien in<br />

Abhängigkeit von der Laserenergie. Die angegebenen Energien beziehen sich jeweils auf<br />

einen Puls und eine Fläche von einem Quadratzentimeter. Die Balken an den Meßwerten der<br />

415 nm-Serie zeigen die Variation der Linienbreite an fünf verschiedenen Stellen der jeweils<br />

etwa 2 cm 2 großen Proben um den aufgetragenen Mittelwert. Die Proben der 466 nm-Serie<br />

besaßen eine kleinere Fläche, so daß nur eine Messung sinnvoll erschien. Der Meßfehler kann<br />

zu etwa 0.1 cm- l abgeschätzt werden. Eine schmale Linienbreite weist auf große Körner und<br />

eine hohe Kristallqualität hin.

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