View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

8 Ergebnisse und Diskussion
59
5.0
~
,
E
u 4.9
-Q)
..-
·05
"-
.0
4.8
C
Q)
c
::J 4.7
4.6
100 200 300
"
--.
d=466 nm ' ..........
400
-.
E (mJ)
Abb.8.6:
Linienbreite der TO-Mode in Abhängigkeit von der Laserpulsenergie für zwei
Probenserien mit 415 bzw. 466 nm Schichtdicke (A=1064 nm, 200 Pulse, 20 Hz).
Die Kurven deuten den Trend an.
Die dargestellten Energieintervalle reichen jeweils von der Kristallisationsschwelle (130 bzw.
370 mJ) bis zum Einsetzen der Ablation bei 370 bzw. 470 mJ. Das Energiefenster der
466 nm-Serie ist schmaler und liegt bei etwa zweifach höheren Energien. Die Linienbreiten
dieser Schichten sind insgesamt etwas niedriger. Besonders bei Energien leicht oberhalb der
Kristallisationschwelle zeigt sich für beide Serien eine deutliche Abnahme der Linienbreite
mit zunehmender Energie. Die Abhängigkeit der Linienbreite von der Energie wird mit
zunehmender Laserenergie schwächer. Bei der 415 nm-Serie deutet sich sogar eine
Verbreiterung für Energien oberhalb von 200 mJ an.
Eine Verschiebung der TO-Mode zu höheren Wellenzahlen etwa proportional zur
Laserenergie ist in Abb. 8.7 erkennbar. Die Balken gelten analog zu Abb.8.6. Der relative
Meßfehler beträgt etwa 0.2 cm- I . Absolut kann der Fehler jedoch bis zu 0.5 cm- I betragen. Der
angedeutete Trend setzt sich bei der 466 nm-Serie fort, deren Schichten mit höheren Energien
kristallisiert wurden. Die Raman-Linien sind bei höheren Wellenzahlen zu beobachten als
diejenigen der 415 nm-Serie.