CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF THIN FILM MATERIALS FOR ...

REFERENCES
[1]. M. Leong, B. Doris, J. Kedzierski, K. Rim, M. Yang, Science 2004, 306, 2057.
[2]. M. N. Baibich, J. M. Broto, A. Fert, F. Nguyen Van Dau, F. Petroff, P. Eitenne, G. Creuzet,
A. Friederich, J. Chazelas, Phys. Rev. Lett. 1988, 61, 2472.
[3]. J. S. Moodera, G. X. Miao, T. S. Santos, Physics Today 2010, 63, 46.
[4]. W. Eerenstein, N. D. Mathur, J. F. Scott, Nature 2006, 442, 759.
[5]. F. Zaera, J. Mater. Chem. 2008, 18, 3521.
[6]. D. Beaulieu, Y. Ding, Z. L. Wang, W. J. Lackey, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 2151.
[7]. K. F. Jensen, Annu. Rev. Fluid Mech. 1991, 23, 197.
[8]. S. M. George, Chem. Rev. 2010, 110, 111.
[9]. Z. Li, R. G. Gordon, V. Pallem, H. Li, D. V. Shenai, Chem. Mater. 2010, 22, 3060.
[10]. M.-K. Song, S.-W. Kang, S.-W. Rhee, Thin Solid Films 2004, 450, 272.
[11]. Thin Film Deposition: Principles and Practice (D. L. Smith), McGraw-Hill, Inc., New York
1995.
[12]. Chemical Vapor Deposition: Principles and Applications (M.-L. Hitchman, K.-F. Jensen),
Academic Press, London 1993.
[13]. M. Leskelä, M. Ritala, Thin Solid Films 2002, 409, 138.
[14]. K. R. Bray, G. N. Parsons, Phys. Rev. B 2001, 65, 035311.
[15]. B. Daudin, F. Widmann, G. Feuillet, Y. Samson, M. Arlery, J. L. Rouvière, Phys. Rev. B
1997, 56, R7069.
[16]. M. T. Currie, S. B. Samavedam, T. A. Langdo, C. W. Leitz, E. A. Fitzgerald, Appl. Phys. Lett.
1998, 72, 1718.
[17]. R. N. Jacobs, J. Markunas, J. Pellegrino, L. A. Almeida, M. Groenert, M. Jaime-Vasquez, N.
Mahadik, C. Andrews, S. B. Qadri, J. Cryst. Growth 2008, 310, 2960.
119