View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

122 Anhang
A)
620 μm
8 bit 4 bit 2 bit single
B)
C) D)
Abbildung B9: Layout zur Herstellung von Crossbarstrukturen in einem PALO Prozess
mit NIL. In A) sind qualitativ die Elektrodenstrukturen gezeigt, die mit
EBL auf einen NIL-Mold geschrieben werden. Es sind Leiterbahnen und
Zuleitungen dargestellt. Die Leiterbahnbreite wird in den Varianten 50 nm,
100 nm, 200 nm und 300 nm erstellt. B) zeigt das Layout für eine Chrommaske
für die PL. Die Zuleitungen zu den Nanostrukturen werden damit
verlängert. Ebenfalls existieren Zuleitungen für eine Top-Elektrode, welche
später aufgedruckt werden soll. C) Schematische Darstellung der fertigen
Bottom-Elektrode nach NIL und PL. D) Schematische Darstellung eins fertigen
Crossbars mit Bottom- und Top-Elektrode.