View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich
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76 Kapitel 5: Sub-μm PALO Crossbar -Strukturen<br />
Breite in nm Messwert in Ω Theorie in Ω<br />
300 nm 2534±468 822<br />
200 nm 3187±662 932<br />
100 nm 4307±520 1185<br />
Tabelle 5.1: Elektrischer Widerstand der Bottom-Elektroden.<br />
weist auf einen zusätzlichen Kontaktwiderstand in gedruckten Kontakten hin. Es war nicht<br />
möglich, anhand der Widerstände zwischen einem Strom durch einen oder zwei Kreuzungspunkte<br />
zu unterscheiden. Es wird angenommen, dass die Unterschiede geringer als<br />
die Schwankungen der Messungen ausfallen.<br />
Der elektrische Kontakt in den Kreuzungspunkten zeigt die Funktionsfähigkeit der Crossbar-<br />
Strukturen. Durch die Verbindung von PALO und NIL wurden somit elektrisch adressierbare<br />
sub-μm Crossbar-Strukturen in einem universellen Druckverfahren realisiert.<br />
A) Kennlinie eins 2x2 Crossbars B)<br />
elektrischer Widerstand<br />
Messung Widerstand in Ù<br />
T1<br />
T2<br />
B1<br />
B2<br />
B1-B1 3435<br />
B2-B2 3694<br />
T1-T1 3406<br />
T2-T2 5617<br />
B1-T1 5714<br />
B2-T1 3467<br />
B2-T2 4960<br />
T1-T2 3062<br />
B1-B2 5651<br />
Abbildung 5.12: A) Kennlinie eines 2x2 Bit Crossbars aus 300 nm Elektroden und direktem<br />
Gold-Gold Kontakt. B) Gemessene Widerstände zwischen den Kreuzungspunkten<br />
und zwischen den Bottom- und Top-Elektroden (B1,B2 und<br />
T1,T2).
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