View/Open - JUWEL - Forschungszentrum Jülich

35
Plasmaofen
Probestation
REM
Rotationsbeschichtung
SPR
Zur Reinigung von Proben mittels Sauerstoplasma
wurde ein Plasmaofen des Typs Pico von Diener electrionic
verwendet.
Die elektrische Charakterisierung wurde mit dem Semiconductor
Characterization System (SCS) 4200 von
Keithly durchgeführt. Dazu gehörte der Capacity Voltage
(CV) Analyser 590 und das CV meter 595, ebenfalls
beide von Keithly. Zur Kontaktierung der Proben
wurden Wolframspitzen verwendet, die mit Mikromanipulatoren
auf der Probe positioniert werden können.
Zur optischen Kontrolle diente das Mikroskop PSM
1000 mit dem Probentisch PM5 von Süss MicroTec.
Der gesamte Aufbau befand sich in einem Faradaykä-
g.
Elektronenmikroskopische Aufnahmen wurden mit einem
Gerät des Typs Gemini 1550 von Leo/Zeiss durchgeführt.
Dabei wurde die Beschleunigungsspannung an
die jeweilige Probe im Bereich von 5 - 20 kV angepasst.
Insbesondere bei der Abbildung von nicht leitfähigen
Materialien wurden kleine Spannungen genutzt. Zur
Detektion stand wahlweise ein Inlens- und ein SE2-
Detektor zur Verfügung.
Auÿerhalb des Reinraums wurde zum Auftragen von
Lacken und Polymeren ein Laurell WS-400E-NPP-Lite
Rotationsbeschleuniger verwendet. Dabei lässt sich die
Geschwindigkeit in einem Bereich von 2000 - 8000 rpm
einstellen.
Für die Oberächenplasmonenresonanzspektroskopie
wurde das Gerät Bio-Suplar 3 der Firma Analytical
μ-Systems verwendet. Dieses Gerät verfügt über einen
GaAs LED Laser (λ = 670 nm) und ein Glasprisma
(n =1.61), welches einen Winkel von 65 ◦ hat.
Chemikalien
Alle Chemikalien wurden wie erhalten verwendet.
Chromätze Ammoniumcernitrat : Perchlorsäure : H 2 O = 10.9% :
4,25% : 84,85% von Microchemicals
Entwickler
Entwickler für PMMA: AR 600-55, Allresist.