Untersuchung des reaktiven Sputterprozesses zur Herstellung von ...

160 Literaturverzeichnis
JIN, Z.-C., HAMBERG, I. und GRANQVIST, C. G., 1988. Optical properties of sputter-deposited
ZnO:Al thin films. Journal of Applied Physics 64(10), 5117–5131.
JOOS, G. und EUCKEN, A., 1955. Landolt-Börnstein Zahlenwerte und Funktionen, Bd. I,4
(Springer-Verlag).
KAPPERTZ, O., DRESE, R., NGARUIYA, J.M.undWUTTIG, M., 2005. Reactive sputter
deposition of zinc oxide: Employing resputtering effects to tailor film properties. Thin Solid
Films , acceptet with minor revisions.
KAPPERTZ, O.,DRESE, R. und WUTTIG, M., 2002. Correlation between structure, stress and
deposition parameters in direct current sputtered zinc oxide films. Journal of Vacuum Science
and Technology A20, 2084–2095.
KELLER, J.H.undSIMMONS, R. G., 1979. Sputtering Process Model of Deposition Rate. J.
Res. Dev. 1, IBM.
KERTES, A. S., 1986. Solubility Data Series, Bd. 23 (Pergamon Press).
KLUTH, O., 1996. Präparation und Charakterisierung von texturierten Metalloxid-Schichten
für Dünnschichtsolarzellen. Diplomarbeit, Rheinisch-Westfählische Technische Hochschule,
Aachen.
KLUTH, O., 2001. Texturierte Zinkoxidschichten für Silizium-Dünnschichtsolarzellen. Dissertation,
Rheinisch-Westfählische Technische Hochschule, Aachen.
KLUTH, O., LÖFFL, A., WIEDER, S., BENEKING, C., APPENZELLER, W.,HOUBEN, L.,
RECH, B., WAGNER, H., HOFFMANN, S., WASER, R., SELVAN, J.A.A.undKEPPNER,
H., 1997. Texture Etched Al-Doped ZnO: A New Material for Enhanced Light Trapping in
Thin Film Solar Cells. In Proceedings of the 26th IEEE PVSC, Anaheim. S. 715–722.
KLUTH, O., RECH, B., HOUBEN, L., WIEDER, S., SCHÖPE, G., BENEKING, C. und WAG-
NER, H., 1999. Texture Etched ZnO:Al Coatet Glass Substrate for Silicon Based Thin Film
Solar Cells. Thin Solid Films 351, 247–253.
KLUTH, O., SCHÖPE, G., HÜPKES, J., AGASHE, C., MÜLLER, J. und RECH, B., 2003. Modified
Thornton Model for Magnetron Sputtered Zinc Oxide: Film Structure and Etching Behaviour.
Thin Solid Films 442, 80–85.