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Erreichbare Bohrtiefen - Geradegenutete Bohrer

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3.4 Beschichtungen<br />

Jeder feste Körper hat eine Oberfläche, deren Eigenschaften sein Verhalten und damit seinen Wert (als funktionalen<br />

Bestandteil eines technischen Bauteils) entscheidend mitbestimmen. Entsprechend hoch ist die Bedeutung der Oberfläche<br />

in fast allen Bereichen der Wirtschaft und entsprechend vielfältig sind die Verfahren, mit denen die Eigenschaften<br />

von Oberflächen beeinflusst werden können. Durch Anwendung dünner Oberflächenschichten, die durch chemische<br />

oder galvanische Verfahren, durch Abscheidung aus der Gasphase (CVD – Verfahren) oder durch Aufdampfen oder Aufstäuben<br />

(PVD – Verfahren) auf Werkzeug- oder Bauteiloberflächen erzeugt werden, lassen sich insbesondere bei korrosiven<br />

und tribologischen Beanspruchungen erhebliche Verbesserungen der Gebrauchseigenschaften erzielen. Die Anwendung<br />

der Kathodenzerstäubung wird schon seit langem praktiziert, jedoch erst mit der Entwicklung der Vakuumtechnik<br />

und der Einführung von vollautomatischen Steuerungen konnte sie richtig weiterentwickelt werden. Heutzutage nehmen<br />

Oberflächenbeschichtungsverfahren eine zunehmend wichtige Rolle ein, insbesondere durch ihre Flexibilität und durch<br />

die optimale Reproduzierbarkeit der Prozessführung.<br />

3.4.1 Vorbereitung der Werkstücke für die Beschichtung<br />

Unter Vorbereitung wird eine Reihe von Vorgängen, die unmittelbar vor der Beschichtung ablaufen müssen, verstanden.<br />

Die Entfettung erfolgt außerhalb der Beschichtungsanlage nach einer speziell ausgearbeiteten Methode, bestehend im<br />

Wesentlichen aus mehreren Reinigungsstufen, in wässrigen Medien, z.T. in Ultraschallbädern.<br />

Das Vorwärmen ist der erste in der Vakuumanlage auszuführende Prozessschritt und dient hauptsächlich der Freisetzung<br />

verdampfbarer Stoffe, die die Werkstoffoberfläche eventuell belegen. Dadurch werden in Hinblick auf die Beschichtungsqualität<br />

folgende Vorteile erreicht: Verringerung des Restgasgehaltes in der Vakuumkammer durch Ausheizen der Kammer<br />

und Vorwärmen der Werkstücke. Dadurch werden auch im folgenden Prozessschritt der eigentlichen Beschichtung<br />

störende Einwirkungen auf die Substratoberfläche vermieden. Durch das Vorwärmen der Werkstücke und die damit<br />

erhöhte Oberflächenreinheit werden die Schichtbildungsbedingungen wesentlich verbessert. Die Werkstücktemperatur<br />

beeinflusst u. a. auch die Schichteigenschaften.<br />

Letzter Schritt unmittelbar vor der Beschichtung ist das sogenannte Ionenätzen. Die Werkstücke befinden sich in einer<br />

sehr verdünnten, hochreinen Atmosphäre in der Vakuumkammer, in der durch eine Gasentladung hochenergetische<br />

Edelgasionen erzeugt werden, die aus mehreren Ionenquellen stammen. Die Ionenquellen sind rund um die Werkstücke<br />

angeordnet. Diese Ionen werden durch ein elektrisches Feld (Linearbeschleunigung) in Richtung zu den Werkstücken<br />

beschleunigt, was auf der Werkstückoberfläche einen fein dosierten Materialabtrag durch Zerstäubung bewirkt. Eine<br />

gleichmäßige Ätzung wird dadurch auch bei ungünstig geformten Teilen erreicht. Die Ionendichte, die den Ätzgrad<br />

bestimmt, kann auf verschiedene Art gesteuert werden:<br />

– durch den Inertgasdurchfluß bzw. Inertgasdruck<br />

– durch die Leistung der Ionenquellen<br />

– durch die an die Werkstücke angelegte Spannung.<br />

Die Sättigung bzw. maximal mögliche Ionenkonzentration ergibt sich bei einer eingestellten Ionenquellenleistung aus<br />

dem Verhältnis zwischen Inertgasdurchfluß und Inertgasdruck. Dieser Zusammenhang ermöglicht eine genaue Einstellung<br />

der Prozeßparameter in Abhängigkeit von den geometrischen Gegebenheiten der Anlage so wie auch in Abhängigkeit<br />

von der Art der installierten Ätzvorrichtung. Der Arbeitsbereich ist relativ eng, da für eine wirkungsvolle Ätzung die<br />

Rate des Materialabtrages von der Werkstückoberfläche das Mehrfache der Rate der Oberflächenkontamination betragen<br />

muss und höhere Energie bei hohen Ätzgeschwindigkeiten von den Werkstücken aufgenommen wird, was zu einer<br />

erhöhten Temperaturzunahme der Werkstücke führt. Vorhandene Oxidschichten sowie durch die mechanische Fertigung<br />

erzeugte Strukturfehler der Werkstückoberfläche, die die Haftung der Schicht beeinträchtigen können, werden mit dieser<br />

Methode leicht entfernt.<br />

Am Ende des Ätzvorgangs sind zwei Vorraussetzungen für eine einwandfreie Beschichtung erfüllt:<br />

– hohe Oberflächenreinheit der Werkstücke<br />

– richtige Werkstücktemperatur für die Beschichtung.<br />

Erzielt wird somit die optimale Haftung zwischen Schicht- und Werkstückmaterial, wie sie bei einer galvanisch aufgetragenen<br />

Beschichtung nicht erreicht werden kann.<br />

3.4.2 Schichtbildungsprozeß bei physikalischer Abscheidung aus der Dampfphase<br />

Die PVD-Technik (physical vapour deposition), physikalische Abscheidung aus der Dampfphase, umfasst Vakuumbeschichtungsverfahren,<br />

deren Beschichtungstemperatur unter 500°C liegen. Die Verfahren unterscheiden sich im Wesentlichen<br />

durch die Art der Überführung des Beschichtungswerkstoffs in die Dampfphase. Dieses erfolgt entweder durch<br />

Zerstäuben infolge Ionenbeschuß oder durch Verdampfen des Schichtwerkstoffes. Wird zusätzlich eine negative Spannung<br />

an die Werkstücke gelegt, um die Ionen des Beschichtungswerkstoffes oder die Ionen eines Arbeitsgases zusätzlich<br />

zu beschleunigen, handelt es sich um ein sog. Ionenimplantierverfahren.<br />

Die Herstellung dünner PVD-Schichten mittels Kathodenzerstäubung, mittels Bedampfung oder mittels Vakuum-Lichtbogenverdampfung,<br />

verläuft grundsätzlich über drei Stadien:<br />

1. die Überführung des Schichtmaterials in den gasförmigen Zustand,<br />

2. der Transport des Dampfes durch die verdünnte Atmosphäre zwischen der Quelle und dem Werkstück,<br />

3. die Kondensation des vor dem Werkstück angelangten Dampfes auf dessen Oberfläche, die Ausbildung einer dünnen<br />

Schicht.<br />

Die Überführung des Schichtmaterials in die Dampfphase erfolgt bei der PVD-Beschichtung mittels Kathodenzerstäubung<br />

(Magnetron-Sputtering) durch den Beschuß einer Kathode, Quelle des Schichtmaterials, mit hochenergetischen<br />

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