universidade de são paulo - Faculdade de Odontologia - Unesp
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significantemente menores quando comparados aos outros grupos tratados e ao<br />
controle, conforme indicado pelo ensaio <strong>de</strong> XTT. Essa observação difere do<br />
resultado obtido por Yildirim et al. 81 (2005) que observaram aumento da<br />
a<strong>de</strong>rência <strong>de</strong> Candida albicans a uma resina para base <strong>de</strong> prótese após tratamentos<br />
a plasma. Uma possível explicação para essa diferença seriam os parâmetros<br />
<strong>de</strong>terminados no estudo <strong>de</strong> Yildirim et al. 81 (2005), no qual foi utilizado o gás<br />
oxigênio a 50 e 100 W durante 15 minutos. A modificação <strong>de</strong> superfície<br />
observada no grupo ArSF 6 /70W envolveu a incorporação <strong>de</strong> flúor na superfície da<br />
resina acrílica. Os resultados <strong>de</strong>monstraram que os valores <strong>de</strong> ângulos <strong>de</strong> contato,<br />
imediatamente após o tratamento a plasma com ArSF 6 /70W, aumentaram<br />
consi<strong>de</strong>ravelmente comparados aos valores do grupo controle, estando <strong>de</strong> acordo<br />
com as observações <strong>de</strong> Guruvenket et al. 17 (2008). Esse fato provavelmente<br />
ocorreu <strong>de</strong>vido à substituição <strong>de</strong> espécies hidrofílicas por átomos <strong>de</strong> flúor 22 .<br />
Consequentemente, as ligações <strong>de</strong> hidrogênio entre as moléculas <strong>de</strong> água e os<br />
grupos presentes na superfície diminuíram, reduzindo a hidrofilicida<strong>de</strong> das<br />
amostras tratadas com ArSF 6 /70W 22 . Assim, a redução da a<strong>de</strong>são <strong>de</strong> Candida<br />
albicans no grupo tratado com ArSF 6 /70W po<strong>de</strong> ser atribuída à presença <strong>de</strong> flúor<br />
na resina acrílica como <strong>de</strong>monstrado pela análise <strong>de</strong> XPS. Essa redução da a<strong>de</strong>são<br />
<strong>de</strong> Candida albicans po<strong>de</strong>ria ser atribuída ao aumento das forças eletrostáticas<br />
repulsivas entre as células fúngicas e as amostras contendo átomos <strong>de</strong> flúor.<br />
Robinson et al. 63 (1997) relataram que a incorporação <strong>de</strong> flúor torna as superfícies<br />
mais negativas, <strong>de</strong>vido à presença <strong>de</strong> átomos eletronegativos <strong>de</strong> flúor. Tem sido<br />
relatado que superfícies <strong>de</strong> resina acrílica carregadas negativamente apresentaram<br />
níveis significantemente menores <strong>de</strong> Candida a<strong>de</strong>ridas comparadas às superfícies<br />
não tratadas, ou seja, superfícies carregadas negativamente po<strong>de</strong>m alterar a<br />
interação iônica entre a base <strong>de</strong> prótese e a célula <strong>de</strong> Candida spp. 47,55 .<br />
Os resultados obtidos no estudo apresentado no capítulo 3 <strong>de</strong>monstraram<br />
também que o tratamento a plasma com Ar/50W reduziu significantemente a<br />
a<strong>de</strong>são <strong>de</strong> Candida glabrata, na ausência <strong>de</strong> saliva. Uma possível explicação para<br />
essa redução po<strong>de</strong>ria ser o fato <strong>de</strong> as amostras do grupo Ar/50W apresentarem o<br />
menor valor <strong>de</strong> ângulo <strong>de</strong> contato, após 48 horas <strong>de</strong> imersão em água.