Вестник НТУ ХПИ_55 2010_Оригинал_макет - Науково-Ñ‚ÐµÑ Ð½Ñ–Ñ‡Ð½Ð° ...

с отверстием для напуска газа; 7 – алундовые кольца; 8 – фланец изнержавеющей стали; 9 – система водяного охлаждения). Дополнительнопроводились эксперименты с ВЧ-источником. На рис. 14 приведеноосевое распределение магнитного поля установки ДИС-1: а) при однонаправленносвключении поля источника и установки; б) при встречномих включении.H, Э25002000H, Э250020001500150010001000500L, см0-50 0 50 100 150 200аРис. 14.5000-50 0 50 100 150 200L, см-500бСценарий эксперимента. Плазма из плазменного источникадвижется вдоль силовых линий спадающего магнитного поля и выходитна коллекторы, расположенные в торце вакуумной камеры. Привключении радиального электрического поля Е плазма начинает вращатьсяв скрещенных радиальном электрическом поле Е и продольноммагнитном поле Н с частотой ω Е . При достижении условия ω E = ω ci /2,где ω ci – циклотронная частота иона с массой µ i в магнитном поле,происходит резонансное ускорение ионов. Ускоренные ионы могутвыйти на стенки вакуумной камеры в некой кольцевой области. Такимобразом, появятся сигналы на продольных коллекторах, расположенныхпо образующей, вдоль стенки вакуумной камеры. Одновременнотоки на коллекторы, располагающиеся в торце вакуумной камеры,должны уменьшиться (в идеальном случае – на величину, пропорциональнуюконцентрации ионов данного сорта в плазме). На стенки вакуумнойкамеры ускоренные ионы могут выходить в некоторой кольцевойобласти, которая имеет длину L, вдоль оси магнитного поля отr сi ⋅R/r сi .< L < 2πr сi ⋅R/r сi ., или R < L < 6R, где R – радиус плазмы, r сi –ларморовский радиус резонансных ионов. На антеннах и коллекторах,располагаемых в камере, должны появиться сигналы с резонанснойчастотой, а также сигналы с кратными частотами. Также возможенвыход плазмы в осевом направлении.В дальнейшем предполагается измерять изменение массового составаионов в области торцового коллектора, проводить десорбционный анализгазов с поверхностей продольного коллектора и измерять потоки ней-ISSN 2079-3944. Вісник НТУ "ХПІ". 2010. № 55143