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Durch das Dotieren wird die Ladungsträgerkonzentration n oder p erhöht und somit steigt die<br />
Leitfähigkeit des Materials. Verbindungshalbleiter wie CIGS können aufgrund von Eigendefekten<br />
auch ohne das Einbringen einer Dotierung von außen freie Ladungsträger aufweisen. Hierbei<br />
handelt es sich z.B. um Kupferleerstellen, die als Elektronenakzeptor wirken und somit eine<br />
p-Dotierung verursachen.<br />
2.1.3 Rekombination<br />
Bei der Rekombination treffen sich ein Elektron aus dem Leitungsband und ein Loch aus dem<br />
Valenzband und eliminieren sich gegenseitig. Dies kann durch Ladungsträgerfallen (Defekte) in<br />
der Mitte der Bandlücke geschehen. Außerdem kann Rekombination strahlend über Band-zu-<br />
Band Übergänge und durch Auger-Rekombination stattfinden. Rekombination führt zum Verlust<br />
von photogenerierten Überschuss-Ladungsträgern und somit zu geringeren Effizienzen in<br />
Solarzellen. Entgegen dem Einfangen von Elektronen und Löchern auf einem Defekt wirkt die<br />
Emission von Elektronen und Löchern von diesem Defekt.<br />
Die Wahrscheinlichkeit, dass ein Defekt mit einem Ladungsträger besetzt ist, hängt direkt von<br />
der energetischen Distanz des Defekts zu der entsprechenden Bandkante ab. Ein Elektronen-<br />
Donator sitzt nahe am Leitungsbandminimum. Die Wahrscheinlichkeit, dass dieser mit einem<br />
Loch besetzt ist ist also relativ hoch, während die Wahrscheinlichkeit, dass der Zustand mit einem<br />
Elektron besetzt ist sehr gering ist. Zu einer Rekombination von Ladungsträgern kann es<br />
aber nur kommen, wenn ein Zustand zur gleichen Zeit mit einem Elektron und einem Loch<br />
besetzt ist. Dies ist am Wahrscheinlichsten in Zuständen in der Bandmitte, da dort die Aufenthaltswahrscheinlichkeit<br />
von Elektronen und Löchern ungefähr gleich groß ist.<br />
Die Rekombination auf einem einzelnen Defektniveau wird als Shockley-Read-Hall Rekombination<br />
bezeichnet und wird über die Rekombinationsrate u beschrieben [26]:<br />
u =<br />
σ n · n<br />
+ n i · ex p E T −E i<br />
kT<br />
σ n σ p· < v th > · n<br />
· p − n 2 i<br />
<br />
· NT<br />
<br />
+ σp · p<br />
+ n i · ex p − E T−E i<br />
kT<br />
(2.7)<br />
Hierbei sind σ n und σ p die Wirkungsquerschnitte für Elektronen und Löcher, die mittlere<br />
thermische Geschwindigkeit der Ladungsträger, E T die Energie und N T die Konzentration des Defektes,<br />
E i die Lage des Fermi-Niveaus für einen intrinsischen Halbleiter und n i die Konzentration<br />
der intrinsischen Ladungsträger.<br />
10 2 Grundlagen