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[102].<br />
Zn 1−x Mg x O wird auch als Pufferschicht verwendet, indem es direkt auf das Absorbermaterial<br />
aufgebracht wird [104]. Der dominierende Rekombinationsmechanismus in CIGS/Zn 1−x Mg x O<br />
ist bei niedrigem Magnesiumgehalt und einem damit verbundenen negativen ∆E LB die Grenzflächenrekombination.<br />
Zellen mit hohem Magnesiumgehalt zeigen tunnel-unterstützte Rekombination<br />
in der Raumladungszone. Im Bereich dazwischen ist kein dominierender Rekombinationsmechanismus<br />
aus zu machen [105].<br />
Weitere TCOs und deren Eigenschaften können [106] entnommen werden.<br />
Einfluss von Natrium<br />
Durch die Verwendung von Kalk-Natron-Glas diffundiert Natrium in den CIGS-Absorber [107].<br />
Dies führt durch eine Erhöhung der offenen Klemmenspannung zu einer starken Erhöhung des<br />
Wirkungsgrades [108]. Hierbei ist der Einfluss des Natrium vielfältig: Natrium reduziert die<br />
Menge an natürlich gebildetem Selenoxid (SeO 2 ), induziert eine Bandverbiegung und reduziert<br />
den Oberflächendipol [109]. Natrium erhöht die Korngröße [110], sättigt die intrinsischen<br />
Selenleerstellen V Se ab [111] und kann durch Abgabe eines Elektrons die Cu-Se Bindung spalten.<br />
Dadurch entsteht Na 2 Se x [112] und Cu + , welches von der Grenzfläche weg ins Innere des<br />
Absorbers diffundiert [113]. Natrium wurde fast ausschließlich an der Grenzfläche zwischen<br />
Absorber und Puffer gefunden [114], wobei die maximale Natriumkonzentration begrenzt ist<br />
[115] und durch Abspülen mit Wasser entfernt werden kann [116].<br />
2.2.3 Grenzfläche CIGS/Puffer<br />
Zur Charakterisierung der Absorber /Puffer Grenzfläche wird der Valenzbandversatz ∆E VB herangezogen.<br />
Verschiedene experimentelle Werte sind in Tabelle 2.1 für CdS und ZnO 1−x S x Puffer<br />
in Abhängigkeit des Depositionsverfahrens angegeben.<br />
Hierbei steht CBD für „chemical bath deposition“, PVD für „physical vapor deposition“, ALD für<br />
„atomic layer deposition“, RF für „Radio Frequency (Sputtern)“ und DFT für „density functional<br />
theory“. DFT stellt keine Depositionsmethode sondern eine theoretische Berechnungsmethode<br />
dar. Zusätzlich wird zwischen stöchiometrischem CIGS und kupferarmen CIGS (abgekürzt mit<br />
158) unterschieden. Weitere Bandanpassungsdaten zwischen einem Cu(In,Ga)(S,Se) 2 Absorber<br />
und gesputtertem ZnO 1−x S x sind in Quelle [132] gegeben.<br />
2.2 Solarzellen 25