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[102].<br />

Zn 1−x Mg x O wird auch als Pufferschicht verwendet, indem es direkt auf das Absorbermaterial<br />

aufgebracht wird [104]. Der dominierende Rekombinationsmechanismus in CIGS/Zn 1−x Mg x O<br />

ist bei niedrigem Magnesiumgehalt und einem damit verbundenen negativen ∆E LB die Grenzflächenrekombination.<br />

Zellen mit hohem Magnesiumgehalt zeigen tunnel-unterstützte Rekombination<br />

in der Raumladungszone. Im Bereich dazwischen ist kein dominierender Rekombinationsmechanismus<br />

aus zu machen [105].<br />

Weitere TCOs und deren Eigenschaften können [106] entnommen werden.<br />

Einfluss von Natrium<br />

Durch die Verwendung von Kalk-Natron-Glas diffundiert Natrium in den CIGS-Absorber [107].<br />

Dies führt durch eine Erhöhung der offenen Klemmenspannung zu einer starken Erhöhung des<br />

Wirkungsgrades [108]. Hierbei ist der Einfluss des Natrium vielfältig: Natrium reduziert die<br />

Menge an natürlich gebildetem Selenoxid (SeO 2 ), induziert eine Bandverbiegung und reduziert<br />

den Oberflächendipol [109]. Natrium erhöht die Korngröße [110], sättigt die intrinsischen<br />

Selenleerstellen V Se ab [111] und kann durch Abgabe eines Elektrons die Cu-Se Bindung spalten.<br />

Dadurch entsteht Na 2 Se x [112] und Cu + , welches von der Grenzfläche weg ins Innere des<br />

Absorbers diffundiert [113]. Natrium wurde fast ausschließlich an der Grenzfläche zwischen<br />

Absorber und Puffer gefunden [114], wobei die maximale Natriumkonzentration begrenzt ist<br />

[115] und durch Abspülen mit Wasser entfernt werden kann [116].<br />

2.2.3 Grenzfläche CIGS/Puffer<br />

Zur Charakterisierung der Absorber /Puffer Grenzfläche wird der Valenzbandversatz ∆E VB herangezogen.<br />

Verschiedene experimentelle Werte sind in Tabelle 2.1 für CdS und ZnO 1−x S x Puffer<br />

in Abhängigkeit des Depositionsverfahrens angegeben.<br />

Hierbei steht CBD für „chemical bath deposition“, PVD für „physical vapor deposition“, ALD für<br />

„atomic layer deposition“, RF für „Radio Frequency (Sputtern)“ und DFT für „density functional<br />

theory“. DFT stellt keine Depositionsmethode sondern eine theoretische Berechnungsmethode<br />

dar. Zusätzlich wird zwischen stöchiometrischem CIGS und kupferarmen CIGS (abgekürzt mit<br />

158) unterschieden. Weitere Bandanpassungsdaten zwischen einem Cu(In,Ga)(S,Se) 2 Absorber<br />

und gesputtertem ZnO 1−x S x sind in Quelle [132] gegeben.<br />

2.2 Solarzellen 25

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